11.(2008年广东)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

焦炭高温HCl573 K以上H21 357 K

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式________________________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

[解析] (1)①根据给定的反应物和生成物写出化学方程式,注意反应条件和配平。

②写出反应物和给出的生成物H2SiO3和HCl,用原子守恒法找出另一种生成物为H2,并配平。

(2)A项水泥是硅酸盐;B、C选项回忆课本硅的化合物的用途可知,两项说法都正确。D项玻璃是混合物没有固定熔点;E项盐酸和硅不反应。

[答案] (1)①SiHCl3+H2Si+3HCl

②SiHCl3+3H2O===H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑ 氧气与氢气混合,可能引起爆炸;氧气可能会氧化SiHCl3

(2)BC

(3)现象:试管中有白色胶状沉淀生成,并且有刺激性气体生成。

解释:Na2SiO3和NH4Cl均能够水解,二者相互促进,Na2SiO3水解生成H2SiO3,NH4Cl水解产生NH3

 0  8707  8715  8721  8725  8731  8733  8737  8743  8745  8751  8757  8761  8763  8767  8773  8775  8781  8785  8787  8791  8793  8797  8799  8801  8802  8803  8805  8806  8807  8809  8811  8815  8817  8821  8823  8827  8833  8835  8841  8845  8847  8851  8857  8863  8865  8871  8875  8877  8883  8887  8893  8901  447348 

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