11.(2008年广东)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
焦炭高温HCl573 K以上H21 357 K
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________________________________________________________________________
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②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式________________________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是________________________________________________________________________
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(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释
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[解析] (1)①根据给定的反应物和生成物写出化学方程式,注意反应条件和配平。
②写出反应物和给出的生成物H2SiO3和HCl,用原子守恒法找出另一种生成物为H2,并配平。
(2)A项水泥是硅酸盐;B、C选项回忆课本硅的化合物的用途可知,两项说法都正确。D项玻璃是混合物没有固定熔点;E项盐酸和硅不反应。
[答案] (1)①SiHCl3+H2Si+3HCl
②SiHCl3+3H2O===H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑ 氧气与氢气混合,可能引起爆炸;氧气可能会氧化SiHCl3
(2)BC
(3)现象:试管中有白色胶状沉淀生成,并且有刺激性气体生成。
解释:Na2SiO3和NH4Cl均能够水解,二者相互促进,Na2SiO3水解生成H2SiO3,NH4Cl水解产生NH3。