31.[化学--选修化学与技术](15分)

磷单质及其化合物的、有广泛应用。

(1)同磷灰石[主要成分]在高温下制备黄磷(P4)的热化学方程式为:

4Ca5(PO4)3F(s)+21SiO2(s)+30C(s)=3P4(g)+20CaSiO3(s)+30CO(g)+SiF4(g) ;△H

①上述反应中,副产物矿渣可用来      。

②已知相同条件下:

4Ca3(PO4)2F(s)+3SiO2(s)=6Cas3(PO4)2(s)+2CaSio3(s)+SiF4(g) ;△H1

2Ca3(PO4)2(s)+10C(s)=P4(g)+6CaO(s)+10CO(g);△H2

SiO2(s)+CaO(s)=CaSiO3(s) ;△H3

△H1△H2△H3表示△H△H =       

(2)三聚磷酸可视为三个磷酸分子(磷酸结构式见右图)之间脱去两个水分子产物,其结构式为       。三聚磷酸钠(俗称“五钠”)是常用的水处理剂,其化学式为    

(3)次磷酸钠(NaH2PO2)可用于化学镀镍。

①NaH2PO2中P元素的化合价为      

②化学镀镍的溶液中含有Ni2+和H2PO2,在酸性等条件下发生下述反应:

(a)    Ni2+ +    H2PO2+     →   Ni++     H2PO3+   

(b)6H2PO-2 +2H+ =2P+4H2PO3+3H2

请在答题卡上写出并配平反应式(a)。

(4)利用②中反应可在塑料镀件表面沉积镍-磷合金,从而达到化学镀镍的目的,这是一种常见的化学镀。请从以下方面比较化学镀与电镀。

方法上的不同点:           ;原理上的不同点:      ;化学镀的优点:          

25.(16分)

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:①四氯化硅遇水极易水解;

②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

③有关物质的物理常数见下表:

物质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8
-
315
-
熔点/℃
-70.0
-107.2
-
-
-
升华温度/℃
-
-
180
300
162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                  

(2)装置A中g管的作用是        ;装置C中的试剂是       

装置E中的h瓶需要冷却的理由是             

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是           (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

5Fe2++MnO4+8H+5Fe3++Mn2++4H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?       (填“是”或“否”),

请说明理由                         

②某同学称取5.000g残留物后,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00mL试样溶液,用1.000×102 mol/L KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是                

 0  41819  41827  41833  41837  41843  41845  41849  41855  41857  41863  41869  41873  41875  41879  41885  41887  41893  41897  41899  41903  41905  41909  41911  41913  41914  41915  41917  41918  41919  41921  41923  41927  41929  41933  41935  41939  41945  41947  41953  41957  41959  41963  41969  41975  41977  41983  41987  41989  41995  41999  42005  42013  447348 

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