13. 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8

315

熔点/℃
-70.0
-107.2



升华温度/℃


180
300
162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式________________________。

(2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________________________________。

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2++MnO+8H+===5Fe3++Mn2++4H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由________________________________________________________________________。

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×102 mol·L1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。

解析:制四氯化硅是由粗硅与Cl2反应得到的,所以必须先制得Cl2,因SiCl4极易水解,所以Cl2须干燥,再根据表格数据分析提纯SiCl4的方法。(1)书写的是离子方程式,B装置中盛放饱和食盐水除去HCl,C装置中用浓H2SO4除水以制得干燥纯净的Cl2;(2)A中用恒压分液漏斗平衡压强,使液体顺利流下;h瓶用冷却液冷却主要目的是得到SiCl4;(3)精馏粗产物得到SiCl4,温度应控制在57.7℃,此时BCl3变为气体,但AlCl3、FeCl3、PCl5均残留在瓶中,所以残留杂质元素是Fe、Al、P、Cl,(4)中①滴定时MnO是自身指示剂,终点时变为紫红色且30 s内不变即可读数;②中

5Fe2+-MnO

  5    1

  x    n

n=1.000×102 mol·L1×20 mL×103 L·mL1=2.000×104 mol

x=1.000×103 mol,从100 mL中取出25 mL,原溶液中n(Fe2+)=4.000×103 mol,

w==4.480%。

答案:(1)MnO2+4H++2ClMn2++Cl2↑+2H2O (2)平衡压强,使液体顺利流下 浓硫酸 使SiCl4冷凝 (3)Al、P、Cl (4)①否 KMnO4溶液自身可作指示剂 ②4.480%

 0  7893  7901  7907  7911  7917  7919  7923  7929  7931  7937  7943  7947  7949  7953  7959  7961  7967  7971  7973  7977  7979  7983  7985  7987  7988  7989  7991  7992  7993  7995  7997  8001  8003  8007  8009  8013  8019  8021  8027  8031  8033  8037  8043  8049  8051  8057  8061  8063  8069  8073  8079  8087  447348 

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