13. 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
- |
315 |
- |
熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
- |
- |
- |
升华温度/℃ |
- |
- |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式________________________。
(2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2++MnO+8H+===5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由________________________________________________________________________。
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。
解析:制四氯化硅是由粗硅与Cl2反应得到的,所以必须先制得Cl2,因SiCl4极易水解,所以Cl2须干燥,再根据表格数据分析提纯SiCl4的方法。(1)书写的是离子方程式,B装置中盛放饱和食盐水除去HCl,C装置中用浓H2SO4除水以制得干燥纯净的Cl2;(2)A中用恒压分液漏斗平衡压强,使液体顺利流下;h瓶用冷却液冷却主要目的是得到SiCl4;(3)精馏粗产物得到SiCl4,温度应控制在57.7℃,此时BCl3变为气体,但AlCl3、FeCl3、PCl5均残留在瓶中,所以残留杂质元素是Fe、Al、P、Cl,(4)中①滴定时MnO是自身指示剂,终点时变为紫红色且30 s内不变即可读数;②中
5Fe2+-MnO
5 1
x n
n=1.000×10-2 mol·L-1×20 mL×10-3 L·mL-1=2.000×10-4 mol
x=1.000×10-3 mol,从100 mL中取出25 mL,原溶液中n(Fe2+)=4.000×10-3 mol,
w==4.480%。
答案:(1)MnO2+4H++2Cl-Mn2++Cl2↑+2H2O (2)平衡压强,使液体顺利流下 浓硫酸 使SiCl4冷凝 (3)Al、P、Cl (4)①否 KMnO4溶液自身可作指示剂 ②4.480%