14.(2009年浙江高考)单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
- |
315 |
- |
熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
- |
- |
- |
升华温度/℃ |
- |
- |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式_______________________________________ _____________________________________________________。
(2)装置A中g管的作用是__________;装置C中的试剂是____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:
5Fe2++MnO+8H+===5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由____________ ____________________________________________________________。
②某同学称取5.000 g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。
[解析] 制备四氯化硅的原料为Cl2和粗Si。A装置为Cl2的制备装置,B、C装置为除杂装置。先用B除去HCl,再用C(浓H2SO4)除去H2O蒸气。Cl2通入粗硅中反应,用冷水将产生SiCl4冷凝即可。
(1)制取氯气用浓盐酸和MnO2在加热条件下反应。
(2)g管是将分液漏斗与烧瓶相连,则它们中的压强是相等的,这样便于盐酸能顺利滴下。SiCl4的沸点很低,只有57.7 ℃,而反应的温度达几百度,故需要冷凝收集。
(3)从物质的物理性质表可发现,AlCl3、FeCl3和PCl5均易升华,故还应有Al、P、Cl元素。
(4)由于高锰酸钾本身是紫红色的,与Fe2+反应时,可以褪色,故而可以作为指示剂。根据方程式可以找出关系,5Fe2+-MnO,n(Fe)=10-2×20×10-3×5×100/25=4×10-3 mol。w(Fe)=4×10-3×56/5×100%=4.48%。
[答案] (1)MnO2+4H++2Cl-Mn2++Cl2↑+2H2O
(2)平衡压强 浓硫酸 使SiCl4冷凝
(3)Al、P、Cl
(4)①否 KMnO4溶液自身可作指示剂
②4.480%
10.如何用所提供的试剂和方法除去各粉末状混合物中的杂质(括号内为杂质),将所选答案的编号填入表内相应的空格内(如果不需要外加试剂,则对应答案栏可不填)。
可供选择的试剂:A.盐酸,B.氢氧化钠溶液,C.氧气,D.水,E.二氧化碳
可供选用的操作:①水洗,②加热,③高温灼烧,④过滤,⑤结晶
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粉末状混合物 |
试剂 |
操作 |
(1) |
CaCO3(SiO2) |
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(2) |
NaCl(SiO2) |
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(3) |
SiO2(Fe2O3) |
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(4) |
SiO2(CaCO3) |
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(5) |
SiO2(H2SiO3) |
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(6) |
SiO2(NH4Cl) |
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[解析] 可根据二氧化硅是不溶于水的酸性氧化物,它可跟强碱反应,不跟酸(氢氟酸除外)反应,受热不分解等性质;而三氧化二铁、碳酸钙跟盐酸反应;硅酸、氯化铵受热分解。通过一定操作,即可除去杂质,除杂过程中所发生的化学方程式如下:
(1)SiO2+2NaOH===Na2SiO3+H2O
(3)Fe2O3+6HCl===2FeCl3+3H2O
(4)CaCO3+2HCl===CaCl2+CO2↑+H2O
(5)H2SiO3SiO2+H2O
(6)NH4ClNH3↑+HCl↑
[答案] (1)B ④ (2)D ④⑤ (3)A ④
(4)A ④ (5)③ (6)②(或D ④)