7.氮的重要化合物如氨(NH3)、肼(N2H4)、三氟化氮(NF3)等,在生产生活中具有重要作用.
(1)利用NH3的还原性可消除氮氧化物的污染,相关热化学方程式如下:
H2O(l)═H2O(g)△H1=+44.0kJ•mol-1
N2(g)+O2(g)═2NO(g)△H2=+229.3kJ•mol-1
4NH3(g)+5O2(g)═4NO(g)+6H2O(g)△H3=-906.5kJ•mol-1
4NH3(g)+6NO(g)═5N2(g)+6H2O(l)△H4
则△H4=-2317kJ•mol-1
(2)使用NaBH4为诱导剂,可使Co2+与肼在碱性条件下发生反应,制得高纯度纳米钴,该过程不产生有毒气体.
①写出该反应的离子方程式:2Co2++N2H4+4OH-=2Co↓+N2↑+4H2O.
②在纳米钴的催化作用下,肼可分解生成两种气体,其中一种能使湿润的红色石蕊试纸变蓝.若反应在不同温度下达到平衡时,混合气体中各组分的体积分数如图1所示,则N2H4发生分解反应的化学方程式为:3N2H4$?_{△}^{催化剂}$N2+4NH3;为抑制肼的分解,可采取的合理措施有降低反应温度、增加压强等(任写一种).

(3)在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂,工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3,其电解原理如图2所示.
①氮化硅的化学式为Si3N4
②a电极为电解池的阳(填“阴”或“阳”)极,写出该电极的电极反应式:NH4++3F--6e-=NF3+4H+;电解过程中还会生成少量氧化性极强的气体单质,该气体的分子式是F2
 0  155594  155602  155608  155612  155618  155620  155624  155630  155632  155638  155644  155648  155650  155654  155660  155662  155668  155672  155674  155678  155680  155684  155686  155688  155689  155690  155692  155693  155694  155696  155698  155702  155704  155708  155710  155714  155720  155722  155728  155732  155734  155738  155744  155750  155752  155758  155762  155764  155770  155774  155780  155788  203614 

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