4.根据题目要求填空:
(1)硫、氮的氧化物是主要的大气污染物,对大气的影响之一是导致酸雨.用化学方程式表示NO2形成酸雨的原因:3NO2+H2O=2HNO3+NO,该反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比为1:2.
(2)实验室常用的几种气体发生装置如图1A、B、C所示:


?实验室可以用B或C装置制取氨气,如果用B装置,反应的化学方程式是?2NH4Cl+Ca(OH)2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CaCl2+2NH3↑+2H2O;如果用C装置,通常使用的药品是浓氨水和氧化钙(或碱石灰、固体氢氧化钠等)(写名称);?图2是某学生设计收集氨气的几种装置,其中可行的是Ⅳ.?若用A装置与D装置相连制取并收集X气体,则X可能是下列气体中的C
A.CO2    B.NO    C.Cl2     D.H2
写出A装置中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-═Mn2++Cl2↑+2H.
(3)氢化钠(NaH)是一种还原性极强的物质,广泛应用于工业生产.
?氢化钠(NaH)中Na元素的化合价为+1,在高温下氢化钠(NaH)可将四氯化钛(TiCl4)还原成金属钛,该反应的化学方程式为?TiCl4+4NaH $\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$4NaCl+Ti+2H2↑.
?NaH能与水剧烈反应:NaH+H2O═NaOH+H2↑,NaH与液氨(NH3)也有类似反应,该反应的化学方程式为?NaH+NH3═NaNH2+H2↑.如果有12g NaH参加此反应,则转移电子的物质的量为0.5mol

(4)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图3所示(热源及夹持装置均已略去):
SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl+H2↑;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是高温下H2与O2混合发生爆炸.
 0  153915  153923  153929  153933  153939  153941  153945  153951  153953  153959  153965  153969  153971  153975  153981  153983  153989  153993  153995  153999  154001  154005  154007  154009  154010  154011  154013  154014  154015  154017  154019  154023  154025  154029  154031  154035  154041  154043  154049  154053  154055  154059  154065  154071  154073  154079  154083  154085  154091  154095  154101  154109  203614 

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