题目内容

【题目】铜是人类发现最早并广泛使用的一种金属。回答下列问题：

（1）实验室使用稀硫酸和H2O2溶解铜片，该反应的离子方程式为___。

（2）电子工业使用FeCl3溶液刻蚀印刷电路板铜箔，写出该反应的化学方程式___。配制FeCl3溶液和FeCl2溶液都应保持___(填“酸性”“碱性”或“中性”)，原因是___。配制FeCl2溶液时还应加入少量铁屑，原因是___。

（3）溶液中Cu2＋的浓度可采用碘量法测得：

①2Cu2＋＋5I-＝2CuI↓＋I3- ②I3-＋2S2O32-＝3I-＋S2O62-

反应①中的还原产物为___。现取10.00mL含Cu2＋的溶液，加入足量KI充分反应后，用0.1000mol·L－1Na2S2O3标准溶液滴定至终点，消耗Na2S2O3溶液12.50mL，此溶液中Cu2＋的浓度为___mol·L－1。

【答案】Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O 2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2 酸性 抑制Fe3+、Fe2+水解 防止Fe2+被空气中的氧气氧化 CuI 0.125

【解析】

（1）稀硫酸具有氧化性，实验室使用稀硫酸和H2O2溶解铜片生成硫酸铜和水；

（2）铁离子具有氧化性，电子工业使用FeCl3溶液刻蚀印刷电路板铜箔，生成氯化亚铁和氯化铜； 根据Fe3+、Fe2+都易水解分析；Fe2+具有还原性，易被氧气氧化；

（3）根据元素化合价升降判断还原产物；根据关系式2S2O32-～～～I3-～～～2Cu2＋计算Cu2＋的浓度。

（1）实验室使用稀硫酸和H2O2溶解铜片生成硫酸铜和水，反应的离子方程式是Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O；

（2）电子工业使用FeCl3溶液刻蚀印刷电路板铜箔，生成氯化亚铁和氯化铜，反应的化学方程式是2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2；Fe3+、Fe2+都易水解，保持溶液呈酸性，可以抑制Fe3+、Fe2+水解；Fe2+具有还原性，易被氧气氧化，为防止Fe2+被空气中的氧气氧化，配制FeCl2溶液时还应加入少量铁屑；

（3）2Cu2＋＋5I-＝2CuI↓＋I3-反应中铜元素化合价由+2降低为+1，还原产物是CuI；

设溶液中Cu2＋的浓度为c；

=0.125mol/L。

练习册系列答案
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H2(g)＋O2(g)＝H2O(l) △H2

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则反应2H3AsO4(s)＝As2O5(s)＋3H2O(l)的△H＝___。

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①下列可判断反应达到平衡的是___(填标号)。

a.v(OH-)＝2v(AsO33-)

b.I2的浓度不再变化

c.不再变化

d.c(I－)＝ymol·L－1

②tm时，v正___v逆(填“大于”“小于”或“等于”)。

③图中m点和n点的逆反应速率较大的是___。

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（2）已知：

化学键

Si-Cl

H-H

H-Cl

Si-Si

键能/kJ·mol-1

360

436

431

176

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