【题目】印刷铜制电路板的蚀刻液选取和回收再利用一直是研究的热点。

1FeCl3溶液一直作为传统的蚀刻液。

①蚀刻过程屮的离子方程式为______________________________

②蚀刻结束后,可以通过两步先分离出铜,冉实现FcCl3溶液再生。

i.1步所加试剂和操作分别为____________________________

ii.2步转化可加入的物质是_________________________(填一种即可)

2H2O2也常用来做铜制电路板蚀刻液,使用时加入盐酸或氨水将其配制成酸性或碱性蚀刻液。应用酸性蚀刻液(HClH2O2),产生的蚀刻废液处理方法如下:

①蚀刻铜板主要反应的离子方程式为_______________________

②回收微米级Cu2O过程中,加入的试剂A______(填字母)

a.Fe b.葡萄糖 C.NaCl固体 d.酸性KMnO4溶液

③回收Cu2(OH)2CO3的过程屮需控制反应的温度,当温度髙于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是______________________

④如图是研究碱性蚀刻液的温度对锏腐蚀量的实验结果,升高温度,腐蚀量变化的原因______________________

3与常规方法不同,有研究者用HClCuCl2做蚀刻液。蚀铜结束,会产生大量含Cu+废液,采用如图所示方法,可达到蚀刻液再生、回收金属铜的目的。此法采用掺硼的人造钻石BDD电极,可直接从水中形成一种具有强氧化性的氡氧自由基(HO·),请写出BDD电极上的电极反应__________________,进一步溶液中反应可实现蚀刻液再生,请写出刻蚀液再生的离子方程式_________________

 0  199329  199337  199343  199347  199353  199355  199359  199365  199367  199373  199379  199383  199385  199389  199395  199397  199403  199407  199409  199413  199415  199419  199421  199423  199424  199425  199427  199428  199429  199431  199433  199437  199439  199443  199445  199449  199455  199457  199463  199467  199469  199473  199479  199485  199487  199493  199497  199499  199505  199509  199515  199523  203614 

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