3．下列过程一定不在细胞器中进行的是. A．氨基酸脱水缩合形成多肽的过程 B．抗体杀灭抗原的过程 C．DNA复制和转录 D．ATP水解生成ADP的过程——青夏教育精英家教网—

3．下列过程一定不在细胞器中进行的是.

A．氨基酸脱水缩合形成多肽的过程　　　　　　　　　　 B．抗体杀灭抗原的过程

C．DNA复制和转录　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 D．ATP水解生成ADP的过程

2.下面是四种不同质粒的示意图，其中ori为复制必需的序列，amp为氨苄青霉素抗性基因，tet为四环素抗性基因，箭头表示同一种限制性内切酶的酶切位点。下列有关叙述正确的是

A．基因amp和tet是一对等位基因，常作为基因工程中的标记基因

B．质粒指细菌细胞中能自我复制的小型环状的DNA和动植物病毒的DNA

C．限制性内切酶的作用部位是DNA分子中特定的两个核苷酸之间的氢键

D．用质粒4将目的基因导入大肠杆菌，该菌不能在含四环素的培养基上生长

1．从基因型为 Aa 的绿色植物某器官中获取组织，显微观察如右图。下列对该图示细胞的叙述正确的是

A．若将X细胞离体培养成完整植株，此过程要涉及纤维素酶和果胶酶

B．将Y细胞离体培养成幼苗后用秋水仙素处理，目的是使其发生染色体结构变异

C．XY两个细胞进行杂交，形成杂种细胞，发育成基因型为AAaa的杂种植株是不育的

D．如果XY细胞所含蛋白质种类有明显差异，其根本原因是信使RNA的不同

25．解：(1)设B受到的最大静摩擦力为，则 ①　 (1分)

设A受到地面的滑动摩擦力的，则 ②　　 (1分)

施加电场后，设A．B以相同的加速度向右做匀减速运动，加速度大小为，由牛顿第二定律

　③　 (2分)解得：　 (2分)

设受到的摩擦力为，由牛顿第二定律得，④

解得：因为，所以电场作用后，A．B仍保持相对静止以相同加速度向右做匀减速运动，所以刚加上匀强电场时，B的加速度大小　 (2分)

(2)A与挡板碰前瞬间，设A．B向右的共同速度为，

　 (2分)解得　 (1分)

A与挡板碰撞无机械能损失，故A刚离开挡板时速度大小为　 (1分)

(3)A与挡板碰后，以A．B系统为研究对象， ⑥

　　故A、B系统动量守恒，设A、B向左共同速度为，规定向左为正方向，得：　　　⑦　 (3分)

设该过程中，B相对于A向右的位移为，由系统功能关系得：

　⑧　 (4分) 解得　(2分)

因，所以B不能离开A，B与A的左端的最大距离为　　 (1分)

24．解：(1)同步卫星高度h可由求得，，

(2)h=3.6×10⁷m

(3)v=3.1km/s

23. 解：(1)小球从ABC轨道下滑，设到达C点时速度大小为v，则　　 ①

要小球能在竖直平面DEF内做圆周运动，在D点　　　 ②

联立①②并代入数据得

(2)若h<H，小球过C点只能做平抛运动，

设小球经C点时速度大小为，小球能击中E点，则有　　 ③

　　　 ④　　　　⑤　　由③④⑤解得h=0.1m

	14	15	16	17	18	19	20	21
答案	BC	C	D	D	C	A	C	BC

22．(1)A(4分)　

② 漏斗重心变化导致单摆有效摆长变化，从而改变单摆周期，影响加速度的测量值(4分)

(2)①乙；因为甲图中电压表的内阻大，流过电流表的电流太小，读数误差比较大

②K₂闭合前后电压表的读数U₁、U₂　；

25．(20分)质量m_A=3.0kg．长度L=0.70m．电量q=+4.0×10^-5C的导体板A在足够大的绝缘水平面上，质量m_B=1.0kg可视为质点的绝缘物块B在导体板A的左端，开始时A、B保持相对静止一起向右滑动，当它们的速度减小到=3.0m/s时，立即施加一个方向水平向左．场强大小E=1.0×10⁵N/C的匀强电场,此时A的右端到竖直绝缘挡板的距离为S =2m，此后A、B始终处在匀强电场中，如图所示．假定A与挡板碰撞时间极短且无机械能损失，A与B之间(动摩擦因数=0．25)及A与地面之间(动摩擦因数=0．10)的最大静摩擦力均可认为等于其滑动摩擦力，g取10m/s²(不计空气的阻力)求：