6.下列物质存放方法错误的是( )
| A. | Cl2水置于棕色试剂瓶避光保存 | |
| B. | 盛NaOH溶液的试剂瓶用磨口玻璃塞 | |
| C. | FeSO4溶液存放在加有少量铁粉的试剂瓶中 | |
| D. | 区别溶液和胶体的最简单的方法是丁达尔效应 |
5.要检验久置的FeSO4溶液是否含有Fe3+,最好采用的方法是( )
| A. | 滴加KSCN溶液 | B. | 先加硝酸根,再加硝酸酸化 | ||
| C. | 利用焰色反应 | D. | 先加盐酸酸化,再加氯化钡 |
3.设NA是阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是( )
| A. | 常温常压下,48gO3含有的氧原子数为NA | |
| B. | 11.2LSO3中含有的SO3分子数为NA | |
| C. | 1.8g的NH4+离子中含有的电子数为NA | |
| D. | 0.1L2mol/LNaCl溶液中含有Na+个数为NA |
2.用下列实验装置完成对应实验(部分仪器已省略)不能达到实验目的是( )
| A. | 检查装置气密性 | |
| B. | 实验室制氨气 | |
| C. | 验证过氧化钠与水反应即生成氧气又放热 | |
| D. | 分离苯和水 |
1.下列物质间的转化不能一步实现的是( )
| A. | SiO2→H2SiO3 | B. | Na2SiO3→H2SiO3 | C. | NO→NO2 | D. | NH3→NO |
18.单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质).粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450:500℃)四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.

相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易反应;
b.硝、铝、铁、磷在高温下均能与氧气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Mn2++Cl2↑+2H2O;制备粗硅的化学反应方程式2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.
(2)装置B中的试剂是饱和食盐水;装置C中的试剂是浓硫酸;装置E中的h瓶需要冷却理由是产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集;干燥管F中碱石灰的作用是吸收空气中的水蒸气.
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物含有多种杂质:BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3,根据题给信息,可通过蒸馏(填操作名称),得到高纯度四氯化硅.
(4)从二氧化硅到高纯硅的生产流程中,经历了一系列氧化还原反.涉及多种含硅物质,这些含硅的物质中,作为氧化剂的有SiO2、SiCl4;作为还原剂的有Si.
0 160583 160591 160597 160601 160607 160609 160613 160619 160621 160627 160633 160637 160639 160643 160649 160651 160657 160661 160663 160667 160669 160673 160675 160677 160678 160679 160681 160682 160683 160685 160687 160691 160693 160697 160699 160703 160709 160711 160717 160721 160723 160727 160733 160739 160741 160747 160751 160753 160759 160763 160769 160777 203614
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易反应;
b.硝、铝、铁、磷在高温下均能与氧气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见表:
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl3 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔点/℃ | -70.0 | -17.2 | - | - | - |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 163 |
(1)写出装置A中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Mn2++Cl2↑+2H2O;制备粗硅的化学反应方程式2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.
(2)装置B中的试剂是饱和食盐水;装置C中的试剂是浓硫酸;装置E中的h瓶需要冷却理由是产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集;干燥管F中碱石灰的作用是吸收空气中的水蒸气.
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物含有多种杂质:BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3,根据题给信息,可通过蒸馏(填操作名称),得到高纯度四氯化硅.
(4)从二氧化硅到高纯硅的生产流程中,经历了一系列氧化还原反.涉及多种含硅物质,这些含硅的物质中,作为氧化剂的有SiO2、SiCl4;作为还原剂的有Si.