题目内容
14.实验室常用NH4Cl和NaNO2反应制取N2.下列有关说法正确的是( )| A. | NH4Cl中N元素被还原 | |
| B. | NaNO2是还原剂 | |
| C. | 生成1 mol N2时转移6 mol电子 | |
| D. | 氧化剂和还原剂的物质的量之比是1:1 |
分析 用NH4Cl和NaNO2反应制取N2,NaNO2中N元素的化合价由+3价降低为0,NH4Cl中N元素的化合价由-3价升高为0,依据原子个数守恒、得失电子守恒反应方程式为:NaNO2+NH4Cl=NaCl+N2↑+2H2O,据此解答.
解答 解:A.用NH4Cl和NaNO2反应制取N2,反应中NH4Cl中的-3价N化合价升高,被氧化,故A错误;
B.用NH4Cl和NaNO2反应制取N2,反应中NaNO2中+3价N化合价降低,被还原,所以在NaNO2反应中做氧化剂,故B错误;
C.依据方程式:NaNO2+NH4Cl=NaCl+N2↑+2H2O,每生成1mol N2时,由化合价的变化可知,转移电子的物质的量为3mol,故C错误;
D.NaNO2中N元素的化合价由+3价降低为0,为氧化剂,NH4Cl中N元素的化合价由-3价升高为0,为还原剂,则氧化剂和还原剂的物质的量之比是1:1,故D正确;
故选:D.
点评 本题考查氧化还原反应和电子式,把握氧化还原反应元素的化合价变化为解答的关键,注意转移电子数目的计算,题目难度中等.
练习册系列答案
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4.单晶硅是制作电子集成电路的基础材料.科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高.用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:
①SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$ Si+2CO
②Si+2Cl2$\frac{\underline{\;点燃\;}}{\;}$SiCl4
③SiCl4+2H2Si+4HCl,
其中,反应②属于( )
①SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$ Si+2CO
②Si+2Cl2$\frac{\underline{\;点燃\;}}{\;}$SiCl4
③SiCl4+2H2Si+4HCl,
其中,反应②属于( )
| A. | 化合反应 | B. | 分解反应 | C. | 置换反应 | D. | 复分解反应 |
5.
X、Y、Z、W四种物质的转化关系如图所示(部分反应物和产物已经省略).下列组合中不符合该关系的是
( )
| A | B | C | D | |
| X | HCl | Na2O2 | Na2CO3 | Al2O3 |
| Y | FeCl2 | NaOH | CO2 | AlCl3 |
| Z | Cl2 | Na2CO3 | CaCO3 | NaAlO2 |
| W | FeCl3 | NaHCO3 | Ca(HCO3)2 | Al(OH)3 |
| A. | A | B. | B | C. | C | D. | D |
9.莫尔盐[(NH4)2Fe(SO4)2•6H2O]常作氧化还原滴定的基准物质,在1L 0.1mol/L的该盐溶液中,下列有关比较正确的是( )
| A. | c(NH4+)+c(NH3•H2O)=0.1 mol/L | B. | 2c(Fe2+)+c(NH4+)=2c(SO42-) | ||
| C. | c(NH4+):c(Fe2+):c(SO42-)=2:1:2 | D. | c(SO42-)>c(NH4+)>c(Fe2+)>c(H+)>c(OH-) |
19.除去括号内杂质的试剂或方法错误的是( )
| A. | KNO3晶体(NaCl),蒸馏水,结晶 | |
| B. | CO2(SO2),酸性KMnO4溶液、浓硫酸,洗气 | |
| C. | HNO3溶液(H2SO4),适量BaCl2溶液,过滤 | |
| D. | C2H5OH(CH3COOH),加足量CaO,蒸馏 |
4.25℃,两种酸的电离平衡常数如下表.[已知:Ksp(MnS)=2.8×10-13]
①0.10mol•L-1Na2SO3溶液中离子浓度由大到小的顺序为c(Na+)>c(SO32-)>c(OH-)>c(HSO3-)>c(H+).
②H2SO3溶液和NaHCO3溶液反应的主要离子方程式为H2SO3+HCO3-=HSO3-+CO2↑+H2O.
| Ka1 | Ka2 | |
| H2SO3 | 1.3×10-2 | 6.3×10-8 |
| H2CO3 | 4.2×10-7 | 5.6×10-11 |
②H2SO3溶液和NaHCO3溶液反应的主要离子方程式为H2SO3+HCO3-=HSO3-+CO2↑+H2O.