题目内容
4.单晶硅是制作电子集成电路的基础材料.科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高.用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:①SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$ Si+2CO
②Si+2Cl2$\frac{\underline{\;点燃\;}}{\;}$SiCl4
③SiCl4+2H2Si+4HCl,
其中,反应②属于( )
| A. | 化合反应 | B. | 分解反应 | C. | 置换反应 | D. | 复分解反应 |
分析 认真分析各反应物与生成物的特点与数量,来确定反应的类型:化合反应的特点为“多变一”,分解反应的特点为“一变多”,置换反应的特点为“单质+化合物═单质+化合物”,复分解反应的特点为“化合物+化合物═化合物+化合物,且两种反应物相互交换成分”.然后根据具体的化学方程式进行分析、判断,从而得出正确的结论.
解答 解:由化学方程式可知,②反应中多种物质生成一种物质,属于化合反应.
故选A.
点评 本题考查化学基本反应类型,题目难度不大,解答本题要掌握反应类型的判断方法,只有这样才能对各种反应类型做出正确的判断.
练习册系列答案
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19.能正确表示下列化学反应的离子方程式的是( )
| A. | CuO溶解在稀盐酸中:O2-+2H+═H2O | |
| B. | 硫酸溶液中滴加氢氧化钡溶液:H++SO42-+Ba2++OH-═BaSO4↓+H2O | |
| C. | 金属钠与水反应:2Na+2H2O═2Na++2OH-+H2↑ | |
| D. | 碳酸钙与醋酸反应:CaCO3+2H+═Ca2++CO2↑+H2O |
17.不能用H++OH-=H2O表示的反应是( )
| A. | 盐酸与氢氧化钾溶液反应 | B. | 稀盐酸与氢氧化钠溶液反应 | ||
| C. | 稀硝酸与氢氧化钠溶液反应 | D. | 硅酸与氢氧化钠溶液反应 |
4.下列图示与对应的叙述相符的是( )

| A. | 图1可表示向醋酸溶液中通入氨气时,溶液导电性随氨气量的变化 | |
| B. | 图2所示实验为常温下用0.01mol•L-1的HCl溶液滴定20mL0.01mol•L-1的NaOH溶液 | |
| C. | 图2可表示常温下pH相同的NaOH溶液与氨水稀释过程的pH变化,其中曲线b是氨水的pH变化 | |
| D. | 图4可以表示常温下pH=2的HCl溶液加水稀释倍数与pH的变化关系 |
16.为提纯如表物质(括号内为杂质)选用的试剂和分离方法都正确的是( )
| 物质 | 试剂 | 分离方法 | |
| ① | KNO3(NaCl) | 蒸馏水 | 降温结晶 |
| ② | CO2(HCl) | 饱和Na2CO3溶液 | 洗气 |
| ③ | 乙酸乙酯(乙酸) | NaOH溶液 | 分液 |
| ④ | Cl2(HCl) | 饱和NaCl溶液 | 洗气 |
| A. | ①③ | B. | ①④ | C. | 只有 ④ | D. | ③④ |
13.下列关于浓HNO3与浓H2SO4的叙述正确的是( )
| A. | 都具有吸水性 | |
| B. | 露置于空气中都能形成白雾 | |
| C. | 露置于空气中,溶液浓度均降低 | |
| D. | 在空气中长期露置,溶液质量均减轻 |
14.实验室常用NH4Cl和NaNO2反应制取N2.下列有关说法正确的是( )
| A. | NH4Cl中N元素被还原 | |
| B. | NaNO2是还原剂 | |
| C. | 生成1 mol N2时转移6 mol电子 | |
| D. | 氧化剂和还原剂的物质的量之比是1:1 |