题目内容

5.今年3月,Google公司研发的智能计算机AlphaGo以四比一的战绩完胜世界棋王李世石.AlphaGo的制造工艺中涉及很多化学知识:
(1)AlphaGo的核心--中央处理器(CPU)的主要成分是高纯硅单晶.在提纯粗硅的流程中硅元素被还原一步的化学方程式为SiCl4+2H2=Si+4HCl.
(2)AlphaGo集成电路板的印刷过程中常利用的离子反应为Cu+2Fe3+=2Fe2++Cu2+
(3)AlphaGo的金属外壳主要成分是铝合金,合金中的铝在空气中不易被腐蚀,十分稳定的原因有bc(填字母序号).
a.铝不与空气中的O2、H2O等物质反应
b.铝金属的表面存在一层致密的氧化膜
c.铝合金中可能掺有一些活泼金属,如Mg-Al合金.

分析 (1)在提纯粗硅的流程中硅元素被还原一步为四氯化硅与氢气反应生成硅与氯化氢;
(2)铜与三价铁离子发生氧化还原反应生成二价铁离子和铜离子;
(3)铝性质活泼,能够与空气中氧气发生反应生成氧化铝,生成一层致密氧化膜,阻止铝与空气接触,铝镁形成合金也能与氧气反应生成氧化膜阻止反应进行.

解答 解:I.(1)在提纯粗硅的流程中硅元素被还原一步为四氯化硅与氢气反应生成硅与氯化氢,化学方程式:SiCl4+2H2=Si+4HCl;
故答案为:SiCl4+2H2=Si+4HCl;
    (2)铜与三价铁离子发生氧化还原反应生成二价铁离子和铜离子,离子方程式:Cu+2Fe3+=2Fe2++Cu2+
故答案为:Cu+2Fe3+=2Fe2++Cu2+
(3)铝性质活泼,能够与空气中氧气发生反应生成氧化铝,生成一层致密氧化膜,阻止铝与空气接触,铝镁形成合金也能与氧气反应生成氧化膜阻止反应进行,所以合金中的铝在空气中不易被腐蚀;
a.铝性质活泼,能够与空气中氧气发生反应,故a不选;
b.铝金属的表面存在一层致密的氧化膜氧化铝,氧化铝能阻止氧气与铝接触,防止腐蚀,故b选;
c.铝镁形成合金也能与氧气反应生成氧化镁、氧化铝氧化膜阻止反应进行,能够防止腐蚀,故c选;
故选:bc.

点评 本题考查了方程式、离子方程式的书写,铝及合金的性质,明确反应实质及铝的性质是解题关键,题目难度不大.

练习册系列答案
相关题目
15.多晶硅是太阳能光伏产业的基础材料.制备多晶硅必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)是一种可燃,易与水反应的气体,当前制备高纯硅的主要方法是在一定条件下以三氯甲硅烷为原料用氢气还原,其生产流程如图所示:

物质SiSiCl4SiHCl3SiH2Cl2SiH3ClHClSiH4
沸点/℃2 35557.631.88.2-30.4-84.9-111.9
(1)①流化床反应器中主要反应的化学方程式是Si+3HCl$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiHCl3+H2
在生成的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏.
②整个制备过程中必须保证无水无氧.SiHCl3遇H2O剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出该反应的化学方程式:SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑.
③H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是O2与SiHCl3、H2混合可能引起爆炸.
(2)该工艺流程可循环利用的物质是H2和HCl.
(3)Na2SiO3的水溶液俗称水玻璃,用水玻璃可制得高纯度SiO2.取少量水玻璃于试管中,逐滴加入饱和NH4Cl溶液,振荡.观察到的实验现象是试管中有白色胶状沉淀生成,有刺激性气味气体生成.
(4)电弧炉中制得的粗硅中含有副产物SiC,已知其中Si和SiC的物质的量之比为2:1,
制取粗硅时的化学方程式是3SiO2+7C═2Si+SiC+6CO↑,
若在反应中生成了2.8g Si,则转移电子数为0.6NA或3.612×1023

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网