题目内容
下列反应离子方程式正确的是（ ）
| A、FeCl3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe3++Cu=Fe2++Cu2+ |
| B、硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na2SiO3+2H+=H2SiO3↓+2Na+ |
| C、Ba（OH）2 溶液与稀硫酸反应：Ba2++OH-+H++SO42-=BaSO4↓+H2O |
| D、向氯化铝溶液中滴加过量氨水：Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+ |
考点：离子方程式的书写
专题：离子反应专题
分析：A．电子、电荷不守恒；
B．硅酸钠完全电离；
C．不符合离子的配比；
D．反应生成氢氧化铝和氯化铵．
B．硅酸钠完全电离；
C．不符合离子的配比；
D．反应生成氢氧化铝和氯化铵．
解答：
解：A．FeCl3 溶液刻蚀铜制的印刷电路板的离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，故A错误；
B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合的离子反应为SiO32-+2H+=H2SiO3↓，故B错误；
C．Ba（OH）2 溶液与稀硫酸反应的离子反应为Ba2++2OH-+2H++SO42-=BaSO4↓+2H2O，故C错误；
D．向氯化铝溶液中滴加过量氨水的离子反应为Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+，故D正确；
故选D．
B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合的离子反应为SiO32-+2H+=H2SiO3↓，故B错误；
C．Ba（OH）2 溶液与稀硫酸反应的离子反应为Ba2++2OH-+2H++SO42-=BaSO4↓+2H2O，故C错误；
D．向氯化铝溶液中滴加过量氨水的离子反应为Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+，故D正确；
故选D．
点评：本题考查离子反应方程式书写的正误判断，为高频考点，把握发生的反应及离子反应的书写方法为解答的关键，侧重氧化还原反应、复分解反应的离子反应考查，综合性较强，题目难度不大．
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| ||
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