题目内容

8.砷化镓属于第三代半导体,其晶胞结构如如图所示.请回答下列问题:
(1)下列说法中正确的是C.
A.电负性:As<Ga                B.第一电离能:As<Ga
C.砷和镓都属于p区元素         D.砷和镓在不同周期
(2)砷化镓(GaAs)是将(CH33Ga和AsH3用MOCVD方法在700℃进行制备得到,其中(CH33Ga中镓原子的杂化方式为sp2
(3)Ga的基态原子核外电子排布式为1s22s22p63s23p63d104s24p1
(4)AsH3的沸点比NH3低,其原因是NH3分子间能形成氢键,而As电负性小,半径大,分子间不能形成氢键.

分析 (1)A.同周期元素从左到右电负性逐渐增大;
B.同周期元素从左到右第一电离呈增大趋势,但第VA族大于第IIIA族,第IIA族大于第IIIA族;
C.根据砷和镓的价层电子特点判断;
D.依据原子序数判断;
(2)利用价层电子对互斥模型判断分子的空间构型和杂化方式;
(3)根据能量最低原理书写电子排布式;
(4)从是否形成氢键的角度分析,形成分子间氢键沸点高.

解答 解:A.同周期元素从左到右电负性逐渐增大,则电负性:As>Ga,故A错误;
B.同周期元素从左到右第一电离呈增大趋势,但第VA族大于第IIIA族,第IIA族大于第IIIA族,所以则第一电离能:As>Ga,故B错误;
C.砷和镓的价层电子都为sp电子,位于周期表p区,故C正确;
D.砷和镓在相同的周期,均在第四周期,故D错误,故选C;
(2)AsH3中含有3个δ键和1个孤电子对,为三角锥形,(CH33Ga中Ga形成3个δ键,没有孤电子对,为sp2杂化,故答案为:sp2
(3)Ga的原子序数为31,核外电子排布式为1s22s22p63s23p63d104s24p1,故答案为:1s22s22p63s23p63d104s24p1
(5)N原子半径较小,电负性较大,对应的NH3分子间能形成氢键,沸点较高,而As电负性小,半径大,分子间不能形成氢键,沸点较低,
故答案为:NH3分子间能形成氢键,而As电负性小,半径大,分子间不能形成氢键.

点评 本题考查了元素周期律的递变规律、分子空间构型以及杂化类型的判断、电子排布式以及氢键等知识,题目难度较大,注意相关基础的把握和方法的积累.

练习册系列答案
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3.晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HCl═SiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1 000~1 100℃反应制得纯硅.
已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃.
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点-33℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为蒸馏.
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图(热源及夹持装置略去)

①装置B中的试剂是浓硫酸.装置C中的烧瓶需要加热,其目的是使SiHCl3气化.
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是石英管的内壁附有灰黑色晶体,装置D不能采用普通玻璃管的原因是SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化.
装置D中发生反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl.
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及先通一段时间H2,将装置中的空气排尽.
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂是(填写字母代号)bd.
a.碘水     b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液     e.Na2SO3溶液.

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