题目内容

实验室制备下列物质时,所用装置或方法正确的是(  )
A、用SiO2和NaOH焙烧制备硅酸钠,可采用的图装置
B、制氧气时,用Na2O2或H2O2作反应物可选择相同的气体发生装置
C、制氯气时,用饱和NaHCO3溶液和浓硫酸净化气体
D、制二氧化氮时,用水或NaOH溶液吸收尾气
考点:气体的净化和干燥,常见气体制备原理及装置选择
专题:
分析:A.瓷坩埚含有二氧化硅;
B.Na2O2与水反应,H2O2在二氧化锰催化条件下都能制取氧气,二者都是固体与液体反应;
C.HCl气体能与碳酸氢钠反应生成CO2,引入新的杂质气体;
D.二氧化氮与水反应生成一氧化氮.
解答: 解:A.瓷坩埚含有二氧化硅和氢氧化钠反应,故A错误;
B.Na2O2与水反应,H2O2在二氧化锰催化条件下都能制取氧气,二者都是固体与液体常温条件下反应,可选择相同的气体发生装置,故B正确;
C.实验室制取氯气含有氯化氢和水分,常用饱和食盐水和浓硫酸净化气体,若饱和NaHCO3溶液,HCl会和NaHCO3反应生成CO2,引入新的杂质,故C错误;
D.二氧化氮与水反应生成一氧化氮,仍然污染空气,所以不能用水吸收,故D错误.
故选B.
点评:本题考查气体的制备与收集,题目难度中等,解答本题的关键是把握相关物质的性质,学习中注意积累.
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