题目内容
有关物质用途，用离子方程式解释不正确的是（ ）
| A、氢氟酸刻蚀玻璃：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O |
| B、明矾用于净水：Al3++3H2O=Al（OH）3+3H+ |
| C、纯碱去除油污：CO32-+H2O?HCO3-+OH- |
| D、氯气制备“84”消毒液：Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+H2O |
考点：离子方程式的书写
专题：离子反应专题
分析：A．氢氟酸能够腐蚀玻璃，二氧化硅与氟化氢反应生成四氟化硅气体和水；
B．铝离子的水解为可逆反应，应该使用可逆号；
C．纯碱为碳酸钠，碳酸根离子水解分步进行，主要以第一步为主；
D．氯气与氢氧化钠反应生成氯化钠、次氯酸钠和水．
B．铝离子的水解为可逆反应，应该使用可逆号；
C．纯碱为碳酸钠，碳酸根离子水解分步进行，主要以第一步为主；
D．氯气与氢氧化钠反应生成氯化钠、次氯酸钠和水．
解答：
解：A．氢氟酸刻蚀玻璃，反应的离子方程式为：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，故A正确；
B．明矾用于净水，铝离子水解生成氢氧化铝胶体，正确的离子方程式为：Al3++3H2O?Al（OH）3+3H+，故B错误；
C．纯碱去除油污，碳酸根离子水解生成碳酸氢根离子和氢氧根离子，反应的离子方程式为：CO32-+H2O?HCO3-+OH-，故C正确；
D．氯气制备“84”消毒液的离子方程式为：Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+H2O，故D正确；
故选B．
B．明矾用于净水，铝离子水解生成氢氧化铝胶体，正确的离子方程式为：Al3++3H2O?Al（OH）3+3H+，故B错误；
C．纯碱去除油污，碳酸根离子水解生成碳酸氢根离子和氢氧根离子，反应的离子方程式为：CO32-+H2O?HCO3-+OH-，故C正确；
D．氯气制备“84”消毒液的离子方程式为：Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+H2O，故D正确；
故选B．
点评：本题考查了离子方程式的书写判断，为高考的高频题，属于中等难度的试题，注意掌握离子方程式的书写原则，明确离子方程式正误判断常用方法：检查反应物、生成物是否正确，检查各物质拆分是否正确，如难溶物、弱电解质等需要保留化学式等．
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