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19.用氢氧化钠固体配制一定物质的量浓度溶液,下列情况使结果偏低的是(  )
A.容量瓶内含少量水B.氢氧化钠中含有少量碳酸钠
C.俯视定容D.溶解后立即定容

分析 分析操作对溶质的物质的量或溶液的体积的影响,根据c=$\frac{n}{V}$判断不当操作对所配溶液浓度影响.

解答 解:A.配制最后需加水定容,量瓶内含少量水,对所配溶液浓度无影响,故A错误;
B.氢氧化钠中含有少量碳酸钠,氢氧化钠的量减少,浓度偏低,故B正确;
C.定容时俯视容量瓶刻度线,所配溶液体积偏小,导致所配溶液浓度偏高,故C错误;
D.溶解后立即定容,未冷却,所配溶液体积偏小,导致所配溶液浓度偏高,故D错误.
故选B.

点评 本题考查配制一定物质的量浓度的溶液的实验操作误差分析及对物质的量浓度的理解,难度不大,抓住c=$\frac{n}{V}$分析操作对溶质的物质的量或对溶液的体积的影响是解题的关键.

练习册系列答案
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9.硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图:
石英砂$→_{高温}^{焦炭}$粗硅$→_{573K以上}^{HCl}$SiHCl3(粗)$\stackrel{精馏}{→}$SiHCl3(纯)$→_{1357K}^{H_{2}}$高纯硅
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;1357K\;}}{\;}$Si+3HCl.
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式SiHCl3+3H2O=H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑.
③H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是高温下,H2遇O2发生爆炸.
④已知2gH2在O2中完全燃烧生成水蒸气时放出241.8kJ的热量.写出H2在O2中完全燃烧生成水蒸气的热化学方程式:2H2(g)+O2(g)═2H2O(g)△H=-483.6 kJ/mol.
(2)下列对硅材料的说法正确的是ABC(填字母).
A.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
B.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,通入二氧化碳气体,振荡,观察.
①实验现象是:生成白色胶状沉淀.②写出发生反应的离子方程式:SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3•H2O+H2SiO3↓.

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