题目内容
【题目】硼酸(H3BO3)是一种重要的化工原料。工业上采用以硼镁矿(含Mg2B2O5·H2O、SiO2及少量Fe2O3。Al2O3)为原料生产硼酸和轻质氧化镁，其工艺流程如下：
下列叙述错误的是
A.“溶浸”中产生的气体是氨气
B.“滤渣1”是SiO2
C.“过滤2”前，将溶液pH调节至3.5，目的是转化为硼酸沉淀
D.“沉镁”中得到的母液经加热后可返回“溶浸”工序循环使用
【答案】B
【解析】
A. “溶浸”是利用铵根离子水解显酸性进行的，由于该操作中需要消耗氢离子，促进铵根离子的水解，导致产生氨气，A正确；
B. 根据流程图，流程的后续产物为硼酸和
，根据过滤2及沉镁成分可知，过滤得到的滤渣1的成分为
，B错误；
C. “过滤2”前，将溶液pH调节至3.5，目的是转化为硼酸沉淀便于其析出，C正确；
D. “沉镁”中得到的母液经加热后的主要成分为硫酸铵，可以返回“溶浸”工序循环使用，D正确；
故答案选B。
【题目】硫酸镍(NiSO4)是一种重要的化工原料，广泛应用于电镀、医药、印染等工业。以含镍废催化剂(主要含Ni及少量的Al、Al2O3、Fe和其它不溶于酸、碱的杂质)为原料生产NiSO4·7H2O晶体的两种工艺流程如下：
流程一：
流程二：
已知：部分金属氢氧化物的Ksp近似值如下表所示：
化学式 | Fe(OH)2 | Fe(OH)3 | Al(OH)3 | Ni(OH)2 |
Ksp近似值 | 10－17 | 10－39 | 10－34 | 10－15 |
回答下列问题：
(1)流程一中所用酸A和流程二中所用酸X___________(填“相同”或“不相同”)；流程一中滤渣C和流程二中滤渣II___________(填“相同”或“不相同”)。流程二中滤渣I是___________。
(2)流程一中“碱浸”时发生反应的离子方程式为_________________、___________________。
(3)流程二中“净化除杂”包含了两步操作过程：第一步，加入氧化剂H2O2，发生反应的离子方程式是____________________________________________；第二步，调节溶液的pH。
(4)分析比较流程一中操作B和流程二中操作Y后，回答操作Y是___________、___________、过滤、洗涤、干燥，即得产物。
(5)由己知信息列式计算：常温下，Ni2＋完全沉淀时的pH值___________。
