题目内容
【题目】硅是信息产业、太阳能电池光电转化的基础材料。锌还原四氯化硅是一种有着良好应用前景的制备硅的方法,该制备过程示意如下:
(1)焦炭在过程Ⅰ中作______剂。
(2)过程Ⅱ中的Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式是____。
(3)整个制备过程必须严格控制无水。
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应的化学方程式是_____。
②干燥Cl2时,从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入到浓H2SO4中。冷却的作用是____。
(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应1: 400℃~756℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)Si(s) + 2ZnCl2(l) ΔH1<0
反应2: 756℃~907℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)Si(s) + 2ZnCl2(g) ΔH2<0
反应3: 907℃~1410℃,SiCl4(g) + 2Zn(g)Si(s) + 2ZnCl2(g) ΔH3<0
① 对于上述三个反应,下列说法合理的是_____。
a.升高温度会提高SiCl4的转化率 b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应的速率 d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
② 实际制备过程选择“反应3”,选择的理由是____。
③ 已知Zn(l)=Zn(g) ΔH = +116 KJ/mol 。若SiCl4的转化率均为90%,每投入1mol SiCl4,“反应3”比“反应2”多放出_____kJ的热量。
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,采用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层。腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液。硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6。用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程_____。
【答案】还原 2NaCl + 2H2O2NaOH + Cl2↑+ H2↑ SiCl4+ 2H2O = SiO2+ 4HCl 使水蒸气冷凝,减少进入浓硫酸的水量,保持持续的吸水性,并降低放出的热量 b c d 温度高,反应速率快;与前两个反应比较,更易于使硅分离 208.8 SiO2+6HF = H2SiF6+ 2H2O
【解析】
(1)根据反应Ⅰ的化学方程式分析焦炭作还原剂。
(2)电解饱和食盐水制备Cl2的化学方程式是2NaCl+2H2O2NaOH+Cl2↑+H2↑。
(3)①SiCl4水解生成SiO2和HCl。
②干燥Cl2时,从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑冷却的作用。
(4)① a.分析温度对平衡的影响; b.锌和硅容易被氧化;
c.压强对速率的影响; d.从还原性角度分析
② 对比三个反应,从反应速率以及状态分析。
③ 反应热的计算和盖斯定律的应用。
(5)SiO2和HF反应生成H2SiF6。
(1)碳与二氧化硅反应方程式为SiO2+2CSi+2CO↑,碳元素在反应中化合价升高,发生氧化反应,碳做还原剂,故填:还原;
(2)电解氯化钠溶液生成氢氧化钠、氯气和氢气,方程式为:2NaCl+2H2O2NaOH+Cl2↑+H2↑,故填:2NaCl+2H2O2NaOH+Cl2↑+H2↑;
(3)①根据SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸的信息,反应物是SiCl4和水,生成物为二氧化硅,根据氧原子守恒,水分子前的系数为2,根据氢原子和氯原子守恒,另一产物为氯化氢,氯化氢前的系数为4,化学反应方程式为SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl。②潮湿氯气中含有较多的水蒸气,先冷却至12℃,此时使水蒸气冷凝,然后再通入到浓H2SO4中,进入浓硫酸的水量少了,保证浓硫酸的良好吸水性,水和浓硫酸作用放热,所以进入硫酸的水少了,能降低放出的热量,故填:①SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl;②使水蒸气冷凝,减少进入浓硫酸的水量,保持持续的吸水性,并降低放出的热量;
(4)①对于三个反应,△H<0,表示都是放热反应,a.升高温度,平衡向吸热的方向移动,所以会降低SiCl4的转化率,a错误;b.Si遇氧气在高温的条件下反应生成二氧化硅,所以还原过程需在无氧的气氛中进行,b正确;c.有气体参加的反应,增大压强,能加快反应的速率,对于三个反应,都有气体参与,所以增大压强,能提高反应的速率,c正确;d.Na、Mg都是还原性比较强的金属,可以代替Zn还原SiCl4,d正确;故选:bcd;②反应2与反应1比较,反应2产物为固体和气体比反应1更易于分离,反应3与反应2比较,反应物都为气态,温度高,反应速率更快,所以实际制备过程选择“反应3”,温度高反应速率快;与前两个反应比较更易于使硅分离,故填:温度高反应速率快;与前两个反应比较更易于使硅分离;③每投入1mol SiCl4,有2molZn参加反应,“反应3”与“反应2”比较,反应2中锌为液态,根据Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol,若SiCl4的转化率均为90%,“反应3”比“反应2”多放出116KJ/mol×2×90%=208.8KJ,故填:208.8;
(5)二氧化硅和氢氟酸反应:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O;SiF4+2HF=H2SiF6,所以用稀HNO3和HF的混合液,硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6的化学方程式为SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O,故填:SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O。