题目内容
1．根据表中信息判断，下列选项正确的是（ ）| 序号 | 反应物 | 产物 |
| 1 | KMnO4、H2O2、H2SO4 | K2SO4、MnSO4… |
| 2 | Cl2、FeBr2 | FeCl3、FeBr3 |
| 3 | MnO4-、Cl-… | Cl2、Mn2+… |
| A． | 第①组反应的其余产物为H20 | |
| B． | 第②组反应中CI2与FeBr2的物质的量之比小于或等于1：2 | |
| C． | 第③组反应中生成1mol Cl2，转移电子5 mol | |
| D． | 氧化性由强到弱顺序为Mn04-＞Cl2＞Fe3+＞Br2 |
分析 依据氧化还原反应中原子守恒，电子守恒和电荷守恒分析配平化学方程式判断选项；
A、锰元素化合价降低，过氧化氢中氧元素化合价升高生成氧气；
B、亚铁离子还原性大于溴离子，产物说明氯气反应过程中亚铁离子全部氧化，溴离子部分氧化；
C、依据反应2MnO4-+16H++10Cl-=5Cl2↑+2Mn2++8H2O，计算电子转移；
D、氧化还原反应中氧化剂的氧化性大于氧化产物分析判断．
解答 解：A、锰元素化合价降低，过氧化氢中氧元素化合价升高生成氧气，2KMnO4+5H2O2+3H2SO4=K2SO4+2MnSO4+8H2O+5O2↑，故A错误；
B、3C12+6FeBr2=2FeC13+4FeBr3 ，亚铁离子还原性大于溴离子，产物说明氯气反应过程中亚铁离子全部氧化，溴离子部分氧化，Cl2与FeBr2的物质的量之比小于或等于1：2，故B正确；
C、2MnO4-+16H++10Cl-=5Cl2↑+2Mn2++8H2O，生成5mol Cl2，转移电子10mol，故C错误；
D、氧化剂的氧化性大于氧化产物，依据化学方程式分析判断，氧化性由强到弱顺序为MnO4-＞Cl2＞Br2＞Fe3+，故D错误；
故选B．
点评 本题考查了氧化还原反应反应实质、电子转移的计算应用，主要是反应产物的判断，掌握离子性质和氧化还原反应规律应用是解题关键，题目难度中等．
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11．3Cu+8HNO3（稀）═3Cu（NO3）2+2NO↑+4H2O下列有关说法中不正确的是（ ）
| A． | HNO3在反应中既表现氧化性也表现出酸性 | |
| B． | 每生成22.4 L NO（标准状况）有3 mol电子转移 | |
| C． | HNO3作氧化剂，铜作还原剂，3 mol Cu还原8 mol的HNO3 | |
| D． | HNO3作氧化剂，铜作还原剂，3 mol Cu还原2 mol的HNO3 |
．
6．河虾不宜与西红柿同食，主要原因是河虾中含+5价砷，西红柿中含有较多的维生素C，两者同食会产生有毒的+3价砷．据此，下列说法不正确的是（ ）
| A． | 该反应中维生素C作还原剂 | |
| B． | 河虾与其它含维生素C较多蔬菜也不宜同食 | |
| C． | 河虾与西红柿同食发生了氧化还原反应 | |
| D． | 该反应中砷元素被氧化 |
A、B、C、D为原子序数依次增大的四种元索，A2-和B+具有相同的电子构型；C、D为同周期元索，C核外电子总数是最外层电子数的3倍；D元素最外层有一个未成对电子．回答下列问题：
10．硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用．回答下列问题．
（1）工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如图：
①还原炉中发生主要反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl，该工艺中可循环使用的物质为HCl和H2（填化学式）．用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅，该反应的化学方程式为SiO2+3C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiC+2CO↑．
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏．
③SiHCl3极易水解，其完全水解的化学方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑．
（2）氮化硅（Si3N4）是一种高温结构材料，粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取．粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定，但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理，可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料，同时还得到遇水不稳定的Mg3N2．
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下，加强热发生反应，使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅，该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理的过程中，除生成Mg3N2外，还可能生成SiO2物质（填化学式）．热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤．
（1）工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如图：
| 发生的主要反应 | |
| 电弧炉 | SiO2+2C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$si+2CO |
| 流化床反应器 | Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300\;}}{\;}$SiHCl3+H2 |
| 还原炉 |
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏．
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸点/°C | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
（2）氮化硅（Si3N4）是一种高温结构材料，粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取．粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定，但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理，可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料，同时还得到遇水不稳定的Mg3N2．
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下，加强热发生反应，使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅，该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理的过程中，除生成Mg3N2外，还可能生成SiO2物质（填化学式）．热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤．
11．下列物质中，可用作净水剂的是（ ）
| A． | 纯碱 | B． | 明矾 | C． | 蔗糖 | D． | 火碱 |