题目内容
高纯氧化镁在新型陶瓷、电气工业上有重要应用．以菱铁矿（主要成分为MgCO3，含少量FeCO3、SiO2）为原料制备硫酸镁，再用焦炭在800℃下还原硫酸镁制备高纯氧化镁，有关工艺流程如下：
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是 ．
（2）酸溶时加入的试剂X是 ．
（3）氧化时发生反应的离子方程式为 ．
（4）滤渣2的主要成分是 （填化学式），试剂Y的最佳选择是 ．
a．NaOH b．MgO c．氨水 d．石灰水
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，写出有关反应的化学方程式 ．
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是
（2）酸溶时加入的试剂X是
（3）氧化时发生反应的离子方程式为
（4）滤渣2的主要成分是
a．NaOH b．MgO c．氨水 d．石灰水
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，写出有关反应的化学方程式
考点：物质分离和提纯的方法和基本操作综合应用
专题：实验设计题,元素及其化合物
分析：以菱铁矿（主要成分为MgCO3，含少量FeCO3、SiO2）为原料，加入稀硫酸酸溶过滤得到滤液为硫酸镁，硫酸亚铁溶液，滤渣1为SiO2，滤液中加入过氧化氢氧化亚铁离子为铁离子，加入氧化镁调节溶液PH沉淀铁离子，过滤得到滤液为硫酸镁溶液，蒸发浓缩，冷却结晶，过滤洗涤制备硫酸镁，再用焦炭在800℃下还原硫酸镁制备高纯氧化镁；
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是增大接触面积增大反应速率；
（2）过程中为了制备硫酸镁，酸溶最好选用稀硫酸；
（3）过氧化氢氧化亚铁离子；
（4）分析过程可知滤渣2为氢氧化铁沉淀，调节溶液PH不能引入新的杂质；
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，依据用守恒配平书写；
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是增大接触面积增大反应速率；
（2）过程中为了制备硫酸镁，酸溶最好选用稀硫酸；
（3）过氧化氢氧化亚铁离子；
（4）分析过程可知滤渣2为氢氧化铁沉淀，调节溶液PH不能引入新的杂质；
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，依据用守恒配平书写；
解答：
解：以菱铁矿（主要成分为MgCO3，含少量FeCO3、SiO2）为原料，加入稀硫酸酸溶过滤得到滤液为硫酸镁，硫酸亚铁溶液，滤渣1为SiO2，滤液中加入过氧化氢氧化亚铁离子为铁离子，加入氧化镁调节溶液PH沉淀铁离子，过滤得到滤液为硫酸镁溶液，蒸发浓缩，冷却结晶，过滤洗涤制备硫酸镁，再用焦炭在800℃下还原硫酸镁制备高纯氧化镁；
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是增大接触面积增大反应速率；
故答案为：加快反应速率；
（2）实验过程中为了制备硫酸镁，和碳煅烧反应生成氧化镁，实验酸溶最好选用稀硫酸；
故答案为：稀硫酸；
（3）过氧化氢时绿色氧化剂，氧化亚铁离子不会引入新的杂质，氧化亚铁离子的离子方程式为：2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O；
故答案为：2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O；
（4）分析过程可知滤渣2为氢氧化铁沉淀，调节溶液PH不能引入新的杂质a、氢氧化钠引入钠离子；b、氧化镁可以调节溶液PH，不含引入新的杂质；c、氨水可以调节溶液PH，但可能引入铵根离子；d、石灰水调节溶液PH会引入钙离子；
故答案为：Fe（OH）3 ，b；
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，依据用守恒配平书写化学方程式为：2MgSO4+C
2MgO+2SO2↑+CO2↑；
故答案为：2MgSO4+C
2MgO+2SO2↑+CO2↑；
（1）菱铁矿要先进行粉碎处理，目的是增大接触面积增大反应速率；
故答案为：加快反应速率；
（2）实验过程中为了制备硫酸镁，和碳煅烧反应生成氧化镁，实验酸溶最好选用稀硫酸；
故答案为：稀硫酸；
（3）过氧化氢时绿色氧化剂，氧化亚铁离子不会引入新的杂质，氧化亚铁离子的离子方程式为：2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O；
故答案为：2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O；
（4）分析过程可知滤渣2为氢氧化铁沉淀，调节溶液PH不能引入新的杂质a、氢氧化钠引入钠离子；b、氧化镁可以调节溶液PH，不含引入新的杂质；c、氨水可以调节溶液PH，但可能引入铵根离子；d、石灰水调节溶液PH会引入钙离子；
故答案为：Fe（OH）3 ，b；
（5）煅烧过程中MgSO4，与焦炭反应产生的气体有SO2、CO2、CO，依据用守恒配平书写化学方程式为：2MgSO4+C
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故答案为：2MgSO4+C
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点评：本题考查了物质分离提纯的过程理解应用，主要是物质性质和实验过程中试剂选择，掌握基础是关键，题目难度中等．
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