题目内容
下列化学反应中，既有离子键、极性键、非极性键的断裂，又有离子键、极性键、非极性键形成的是
A. 2Na2O2 + 2H2O == 4NaOH + O2↑ B. Mg3N2 + 6H2O == 3Mg(OH)2 + 2NH3↑
C. Cl2 + H2O == HCl + HClO D. NH4Cl + NaOH== NaCl+ NH3↑+ H2O
A
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A．温度相同，体积相同的O2和N2
下表是元素周期表的一部分。
| 族 | ⅠA | ⅡA | ⅢA | ⅣA | ⅤA | ⅥA | ⅦA |
| 一 | ① | ||||||
| 二 | ② | ③ | ④ | ⑤ | ⑥ | ||
| 三 | ⑦ | ⑧ | ⑨ | ⑩ | |||
| 四 | ⑾ | ⑿ | ⒀ |
周期（1）元素 的单质室温下呈液态；元素 的氢化物最稳定；元素 的最高价氧化物的水化物的酸性最强；元素 的高价氧化物的水化物的碱性最强（填写“元素符号”）；
（2）表中元素③与⑨形成稳定化合物的结构式是 ；
（3）表中元素①③⑤组成的“A4B2C2”型物质，分子内含有的键型是 ；
A．离子键和共价键 B．仅为共价键
C．仅为极性共价键 D．极性共价键和非极性共价键
（4）表中元素 的氢化物的分子间存在氢键（填写“数字序号”）；
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
| 熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
| 升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式：_____________________________
______
________________________________________________________________________。
(2)装置A中g管的作用是____________；装置C中的试剂是__________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________________________
________________________________________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
、Cl－
