题目内容
【题目】光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，其合成路线如下(部分试剂和产物已略去)：
已知：I.
+ 
+H2O(R1，R2为烃基或氢)
II.
+R2OH
+HCl(R1，R2为烃基)
(1)A的结构笱式________，B中所含官能团的名称为_______。
(2)乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E能发生水解反应，则E的结构简式为_______。
(3)B→C所需的试剂Y 和反应条件分别为 __________、____________；由F到G反应类型为______________。
(4)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为________。
(5)T是C的同分异构体 T具有下列性质或特征：①能发生银镜反应和水解反应；②分子结构中除苯环外无其他环。则符合条件的T的结构有_______种，其中核磁共振氢谱为 5 组峰，且峰面积比为1:1:2: 2所有的结构简式为 ______。
【答案】
碳碳双键、醛基 CH3COOCH=CH2 银氨溶液 水浴加热 取代反应(水解反应) n
+
+nHCl 5 
、
【解析】
A与CH3CHO发生类似信息I的反应生成B并生成一分子水，根据B的分子式可知A的分子式为C7H6O，且A中含有醛基，所以A为
，B为
，B与银氨溶液发生氧化反应、酸化得到C，则C为
，C发生取代反应生成D；乙炔和羧酸X加成生成E，E发生加聚反应得到F，则E分子中含有C=C双键，结合分子式可知，X为CH3COOH，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，故E为CH3COOCH=CH2，F为
，G与D发生信息Ⅱ的反应得到光刻胶，则光刻胶的结构简式为：
。
(1)根据分析可知A为；B为，其官能团为碳碳双键和醛基；
(2)根据分析可知E为CH3COOCH=CH2；
(3)B到C为醛基的氧化反应，所以试剂Y可为银氨溶液，反应条件为水浴加热；F为，酯基反应水解生成G，所以为取代反应；
(4)D和G发生类似信息II的反应生成光刻胶，化学方程式为n++nHCl；
(5)C为，其同分异构体T满足：
①能发生银镜反应和水解反应说明同时含有酯基和醛基，但C中只有2个氧原子，所以其酯基应为—OCHO；
②分子结构中除苯环外无其他环，若只有一个取代基，该取代基可以为—CH=CHOCHO或—C(OCHO)=CH2；若有两个取代基，则分别为—CH=CH2、—OCHO，有邻间对三种结构，共有2+3=5种同分异构体；
其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1:1:2: 2所有的结构简式为
和
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化学键 | H2O中H—O键 | O2中O＝O 键 | H2中H—H键 | H2O2中O—O键 | H2O2中O—H键 |
键能kJ/mol | 463 | 496 | 436 | 138 | 463 |
若反应过程中分解了2 mol水，则下列说法不正确的是
A. 总反应为2H2O
2H2↑+O2↑
B. 过程I吸收了926 kJ能量
C. 过程II放出了574 kJ能量
D. 过程Ⅲ属于放热反应
