题目内容

1．下列离子方程式书写不正确的是（　　）
A．常温下氯气与烧碱溶液反应：Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O
B．AlCl3溶液中加入过量的氨水：Al3++3NH3•H2O═Al（OH）3↓+3NH4+
C．金属钠与水反应：Na+H2O═Na++OH-+H2↑
D．铜与稀硝酸反应：3Cu+8H++2NO3-═3Cu2++2NO↑+4H2O

分析 A．反应生成氯化钠、次氯酸钠和水；
B．反应生成氢氧化铝和氯化铵；
C．反应生成氢氧化钠和氢气，电子、原子不守恒；
D．反应生成硝酸铜、NO和水，结合离子反应中保留化学式的物质及电荷守恒解答．

解答 解：A．常温下氯气与烧碱溶液反应的离子反应为Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O，故A正确；
B．AlCl3溶液中加入过量的氨水的离子反应为Al3++3NH3•H2O═Al（OH）3↓+3NH4+，故B正确；
C．金属钠与水反应的离子反应为2Na+2H2O═2Na++2OH-+H2↑，故C错误；
D．铜与稀硝酸反应的离子反应为3Cu+8H++2NO3-═3Cu2++2NO↑+4H2O，故D正确；
故选C．

点评 本题考查离子反应方程式书写的正误判断，为高频考点，把握发生的反应及离子反应的书写方法为解答的关键，侧重氧化还原反应、复分解反应的离子反应考查，综合性较强，题目难度不大．

练习册系列答案
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11．室温时下列各组中的物质分别与足量NaOH溶液反应，生成盐种类最多的是（　　）
A．Cl2、SO2、H2SiO3、NH4ClB．Al、CO、HCl、Al（NO3）3
C．N2、SiO2、CH3COOH、Na2CO3D．Fe  CaO、NH3H2O  NaHCO3
12．下列分子式表示的物质，没有同分异构体的是（　　）
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9．有专家指出，如果将燃烧产物如CO2、H2O、N2等利用太阳能使它们重新变成CH4、CH3OH、NH3等的构想能够成为现实，则下列说法中，错误的是（　　）
A．可消除对大气的污染
B．可节约燃料
C．可缓解能源危机
D．此题中的CH4、CH3OH、NH3等为一级能源
16．下列关于乙酸与乙醇的说法正确的是（　　）
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C．水溶液均显酸性D．可用石蕊溶液加入鉴别
6．下列过程没有发生化学反应的是（　　）
A．用活性炭去除冰箱中的异味
B．用热碱水清除炊具上残留的油污
C．用浸泡过高锰酸钾溶液的硅藻土保鲜水果
D．用含硅胶、铁粉的透气小袋与食品一起密封包装
13．已知室温下BaSO4在纯水中的溶解度为1.07×10-5mol•L-1，BaSO4在0.010mol•L-1Na2SO4溶液中的溶解度是在纯水中溶解度的多少倍？已知KSP（BaSO4）=1.07×10-10．
10．FeCl3水解的离子方程式为Fe3++3H2O?Fe（OH）3+3H+．
改变下列条件：①升高温度；②加少量浓盐酸；③加水稀释；④加少量铁粉；⑤加少量Na2CO3（s）
（1）使水解平衡右移的是①③④；
（2）使水解平衡左移的是②④；
（3）使溶液pH减小的是①②．
1．单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、CO等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃）四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．

相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见表：
物质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5
沸点/℃57.712.8 
 		315 
熔点/℃-70.0-107.2  
 		 
 
升华温度/℃ 180300162
d．已知装置A中发生反应的方程式为MnO2+4HCl（浓）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ MnCl2+Cl2↑+2H2O
请回答下列问题：
（1）装置A中g管的作用是平衡压强；装置C中的试剂是浓硫酸；装置E中的h 瓶需要冷却的理由是使SiCl4冷凝收集．
（2）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过酒精（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是Al、P（填写元素符号）．

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