题目内容

8.关于硅的下列叙述中,正确的是?(  )
A.晶体硅与金刚石分子都是正四面体结构
B.硅酸盐都不溶于水?
C.硅与酸、碱都不能发生反应
D.原硅酸和硅酸对应的酸酐都是二氧化硅

分析 A、晶体硅与金刚石不是分子,而是原子;
B、硅酸钠溶于水;
C、硅与氢氟酸、氢氧化钠发生反应;
D、二氧化硅是原硅酸和硅酸对应的酸酐.

解答 解:A、晶体硅与金刚石不是分子,而是原子,都是空间网状结构,故A错误;
B、硅酸钠溶于水,故B错误;
C、硅与氢氟酸生成四氟化硅、硅与氢氧化钠发生反应生成氢气,故C错误;
D、二氧化硅是原硅酸和硅酸对应的酸酐,所以原硅酸和硅酸对应的酸酐都是二氧化硅,故D正确;
故选D.

点评 本题考了元素化合物知识,熟悉硅及其氧化物性质是解题关键,注意二氧化硅特性,能够与氢氟酸在常温下反应,题目难度不大.

练习册系列答案
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16.H2O2是一种常用绿色氧化剂,在化学研究中应用广泛.

(1)空气阴极法电解制备H2O2的装置如图1所示,主要原理是在碱性电解质溶液中,通过利用空气中氧气在阴极还原得到H2O2和稀碱的混合物.试回答:
①直流电源的a极名称是正极.
②阴极电极反应式为O2+2e-+2H2O=H2O2+2OH-
③1979年,科学家们用CO、O2和水在三苯膦钯的催化下室温制得了H2O2.相对于电解法,该方法具有的优点是安全、能耗低.
(2)Fe3+对H2O2的分解具有催化作用.利用图2(a)和(b)中的信息,按图2(c)装置(连通的A、B瓶中已充有NO2气体)进行实验.可观察到B瓶中气体颜色比A瓶中的深(填“深”或“浅”),其原因是H2O2分解放热,使平衡2NO2═N2O4向生成NO2方向移动.
(3)用H2O2 和H2SO4 的混合溶液可溶解印刷电路板金属粉末中的铜.反应的离子方程式是Cu+H2O2+H2SO4 $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CuSO4+2H2O,控制其它条件相同,印刷电路板的金属粉末用10%H2O2和3.0mol•L-1H2SO4溶液处理,测得不同温度下铜的平均溶解速率(见下表)
温度(℃)20304050607080
Cu的平均溶解速率
(×10-3mol•min-1
7.348.019.257.987.246.735.76
当温度高于40℃时,铜的平均溶解速率随着反应温度的升高而下降,其主要原因是温度高于40℃后,随着温度的升高,H2O2的分解速率加快,使溶液中H2O2的浓度降低加快,对铜的溶解速率的影响超过了温度升高对铜溶解速率的影响,所以铜的溶解速率逐渐减小.
3.亚硝酸钠是重要的防腐剂.某化学兴趣小组以碳和浓硝酸为起始原料,设计如下装置利用一氧化氮与过氧化钠反应制备亚硝酸钠.(夹持装置和A中加热装置已略,气密性已检验),

查阅资料:①HNO2为弱酸,室温下存在反应3HNO2═HNO3+2NO↑+H2O;
②在酸性溶液中,NO2-可将MnO4-还原为Mn2+且无气体生成.
③NO不与碱反应,可被酸性KMnO4溶液氧化为硝酸
实验操作:
①关闭弹簧夹,打开A中分液漏斗活塞,滴加一定量浓硝酸,加热;
②一段时间后停止加热;③从C中取少量固体,检验是否是亚硝酸钠.
(1)A中反应的化学方程式是C+4HNO3(浓)$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CO2↑+4NO2↑+2H2O.
(2)B中观察的主要现象是溶液变蓝,铜片溶解,导管口有无色气体冒出,D装置的作用是除去未反应的NO,防止污染空气.
(3)检验C中产物有亚硝酸钠的操作是将生成物置于试管中,加入稀硫酸,若产生无色气体并在液面上方变为红棕色,则D中产物是亚硝酸钠.
(4)经检验C产物中亚硝酸钠含量较少.
a.甲同学认为C中产物不仅有亚硝酸钠,还有碳酸钠和氢氧化钠.
生成碳酸钠的化学方程式是2CO2+2Na2O2═2Na2CO3+O2.为排除干扰甲在B、C装置间增加装置E,E中盛放的试剂应是碱石灰(写名称).
b.乙同学认为除上述干扰因素外,还会有空气参与反应导致产品不纯,所以在实验操作①前应增加一步操作,该操作是打开弹簧夹,通入N2一段时间.
(5)实验经改进后可制得较纯亚硝酸钠,下列关于亚硝酸钠的说法正确的是bc.
a.亚硝酸钠有咸味,可代替食盐食用    b.常温下,0.1mol/L亚硝酸钠溶液pH>1
c.0.1mol/L亚硝酸钠溶液中存在:c(Na+)+c(H+)=c(NO2-)+c(OH-
d.0.1mol/L亚硝酸钠溶液中存在:c(NO2-)>c(Na+)>c(OH-)>c(H+

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