题目内容

16．下列各组物质全部是弱电解质的是（　　）
A．H2SiO3   H2S   CO2B．H2O    NH3•H2O   H3PO4
C．H2SO3   BaSO4   CH4D．MgSO4   CH3COOH   CH3CH2OH

分析 只有部分电离的电解质是弱电解质，弱酸、弱碱和水都属于弱电解质．

解答 解：A．H2SiO3  和 H2S属于弱酸是弱电解质，CO2本身不能电离出离子属于非电解质，故A错误；
B．H2O、NH3•H2O、H3PO4 水溶液中部分电离属于弱电解质，故B正确；
C．H2SO3  水溶液中部分电离属于弱电解质，BaSO4  熔融状态全部电离属于强电解质，CH4 不能电离属于非电解质，故C错误；
D．MgSO4 属于盐是强电解质，CH3COOH 水溶液中部分电离属于弱电解质，CH3CH2OH不能电离属于非电解质，故D错误；
故选B．

点评 本题考查了强弱电解质的划分，明确其划分标准是电解质的电离程度，掌握概念的实质是解题关键，题目难度不大．

练习册系列答案
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17．某烃类化合物A的质谱图表明其相对分子质量为84，红外光谱表明分子中含有碳碳双键，核磁共振谱表明分子中只有一种类型的氢．（C的相对原子质量为12，H的相对原子质量为1）
（1）A的结构简式为；
（2）A中的碳原子是否都处于同一平面？是（填“是”或者“不是”）；
（3）在图中，D1、D2互为同分异构体，E1、E2互为同分异构体．

反应②的化学方程式为
C的化学名称为2，3-二甲基-1，3-丁二烯
E2的结构简式是．
18．依反应①2W-+X2═2X-+W2；②2Y-+W2═2W-+Y；③2X-+Z2=2Z-+X2不下列结论正确的是（　　）
A．X-、Y-、Z-、W-中Z-还原性最强B．X2、Y2、Z2、W2中Z2的氧化性最强
C．2Z-+Y2═-+Z2不能向右进行D．还原性X-＞Y-
4．某探究小组以硫酸和铜为原料设计如下四种制硫酸铜晶体的路线：
甲：Cu$\stackrel{浓H_{2}SO_{4}、△}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO4
乙：Cu$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$$\stackrel{稀HNO_{3}分批多次}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO4•5H2O
丙：Cu$\stackrel{O_{2}、灼烧}{→}$CuO$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO4
丁：Cu$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}、X}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO4
请回答实验中的有关问题：
（1）甲方案中发生反应的化学方程式为Cu+2H2SO4（浓）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CuSO4+SO2↑+2H2O．
（2）甲、乙、丙方案中，丙方案更合理，原因是不排放有毒气体．
（3）乙方案中含有c（HNO3）=2mol•L-1，c（H2SO4）=4mol•L-1的废酸混合液100mL（不使用其它酸或氧化剂），最多能制备硫酸铜晶体（CuSO4•5H2O）的质量为75g．
（4）丙方案中用于灼烧的仪器名称是坩埚，该实验中的后续步骤指的是蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥．
（5）丁方案中Cu、试剂X、稀硫酸反应的化学方程式为Cu+H2O2+H2SO4=CuSO4+2H2O．
11．某有机物（X）的分子结构模型如图所示（分子中只有C、H、O三种原子），请回答下列问题．

（1）观察题图的分子结构模型，写出X分子中包含的官能团的名称：羧基、碳碳双键和羟基．
（2）下列对有机物X的性质的说法正确的是①②．
①能使酸性高锰酸钾溶液褪色
②能使溴水褪色
③1 mol X与足量的金属钠反应能放出标准状况下的氢气22.4L．
（3）写出X在一定条件下发生消去反应生成的化学方程式：．
（4）1mol有机物X完全燃烧需消耗氧气7mol．
1．解答下列问题：
（1）现有34g某气体，摩尔质量为17g•mol-1，则：
①该气体为2 mol．
②该气体所含分子数为2 NA．
③该气体在标准状况下的体积为44.8 L．
（2）若要配制100mL 0.1mo1•L-1Na2SO4溶液，需称量Na2SO4的质量为1.42g，从所配制溶液中取出5mL，则取出溶液的物质的量浓度为0.1mo1•L-1．
（3）将标准状况下2240mL氨完全溶于水配成100mL溶液，氨水中NH3的物质的量浓度为1 mol•L-1．（不考虑NH3与H2O的反应）
（4）4.5g H2O与0.25 mol H2SO4所含的分子数相等，它们所含氧原子数之比是1：4．
8．硅单质及其化合物应用范围广．请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高醇硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意图如下：
石英砂$→_{高温}^{焦炭}$粗硅$→_{573K以上}^{HCl}$SiHCl3（粗）$\stackrel{精馏}{→}$SiHCl3（纯）$→_{1357K}^{H_{2}}$高纯硅
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式SiHCl3+H2═Si+3HCl．
②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3．H2和另一种物质．写出配平的化学反应方程式SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl，H2还原SiHCl3过程中若混O2．可能引起的后果是高温下，H2遇O2发生爆炸．
（2）下列有关硅材料的说法正确的是ABCD（填字母）．
A．高纯度的硅，可用于生产光电池，将光能直接转换为电能
B．氮化硅硬度大．熔点高．可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料----光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱．石灰石和石英砂制成的
E．盐酸可以与硅反应．故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中．逐滴加入饱和氯化铵溶液．振荡．写出实验现象并给予解释生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3•H2O+H2SiO3↓．
5．下列叙述正确的是（　　）
①热稳定性：H2O＞HF＞H2S
②SrSO4是难溶于水的白色固体
③第ⅠA、ⅡA族元素的阳离子与同周期稀有气体元素的原子具有相同的核外电子排布
④元素周期表中从ⅢB族到ⅡB族10个纵行的元素都是金属元素　
⑤因为常温下白磷可自然，而氮气须在放电时才与氧气反应，所以非金属性：P＞N
⑥Li在氧气中剧烈燃烧，产物是Li2O2，其溶液是一种强碱．
A．只有②④B．只有①⑤⑥C．只有②④⑥D．只有③⑤
6．下列气体中能形成酸雨的是（　　）
A．N2B．COC．SO2D．O3

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