题目内容

某有机化合物A因其具有麻醉作用,常用作局部麻醉剂和镇痛剂.它的结构简式如右图所示,请回答:
(1)A的分子式是
 

(2)有机物A不能发生的化学反应有(填序号)
 

a.加成反应b.水解反应
c.加聚反应d.氧化反应
(3)满足下列条件的A的同分异构体有
 
种,写出其中一种的结构简式
 

①能与碳酸氢钠溶液反应;
②核磁共振氢谱显示有四种类型氢原子的吸收峰.
考点:有机物的结构和性质
专题:有机物的化学性质及推断
分析:(1)根据有机物的结构简式判断所含元素种类和原子个数,可确定分子式;
(2)根据有机物所含有的官能团判断可能具有的性质;
(3)能与碳酸氢钠溶液反应,则分子中应含有-COOH,核磁共振氢谱显示有四种类型氢原子的吸收峰,说明分子中含有4种性质不同的H原子.
解答: 解:(1)根据有机物的结构简式可知该有机物中含有10个C、12个H、2个O原子,则分子式为C10H12O2,故答案为:C10H12O2
(2)有机物中含有C=C,可发生加成、加聚、氧化反应,含有酚羟基,可发生取代、氧化反应,但不能发生消去反应,故答案为:b;

(3)能与碳酸氢钠溶液反应,则分子中应含有-COOH,核磁共振氢谱显示有四种类型氢原子的吸收峰,说明分子中含有4种性质不同的H原子,可能的结构有2种,
故答案为:2;  中的一种.
点评:本题考查有机物的结构与性质,为高频考点,把握官能团与性质的关系为解答的关键,侧重酚、烯烃、羧酸性质的考查,选项D为解答的难点,题目难度不大.
练习册系列答案
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微电子工业中化合物A作为半导体、液晶和薄膜太阳能电池等生产过程中的蚀刻剂.在对硅、氮化硅等材料进行蚀刻时具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,对表面无污染.
已知:
①化合物A由两种元素组成,常温下是一种无色、无臭的气体,能助燃,当温度超过350℃时会缓慢分解成两种气体单质,同温同压下气体A相对于某常见黄绿色气态单质的相对密度为1;
②化合物B与单质C在一定条件下反应生成化合物A及化合物D,常温下A、B、C、D均为气体.
③B、D的分子具有相同的电子总数,且均极易溶于水,D的水溶液显酸性常用来作玻璃雕刻的腐蚀液;
④C、A均能与水发生反应.其中,C与水反应生成D溶液及气体单质F;而A与水反应则生成两种酸溶液及一种气态氧化物E(无色、有毒、难溶于水).
(1)化合物B的结构式是
 
,用相应的化学用语表示B溶于水并发生电离的过程
 

(2)气体A不可燃但能助燃,故气体A的应远离火种且与还原剂、易燃或可燃物等分开存放.结构决定性质,试从结构的角度加以分析:
 

(3)以A对氮化硅(Si3N4)材料的蚀刻为例,用反应方程式来解释为什么在被蚀刻物表面不留任何残留物
 

(4)“已知④”中A与水发生的反应属于氧化还原反应,若反应中生成的气态氧化物E标况下为448mL,则生成两种酸溶液中作为氧化产物的那种酸其物质的量为
 
mol.
(5)设计实验证明D是一种弱电解质
 

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