Question

用于无线电技术的集成微电路是极薄的一层高纯单晶硅，在其上借腐蚀的方法“刻”出条纹．高纯硅是由用二氧化硅制得的甲硅烷生成．
（1）试提出制高纯硅的方法，写出相应的反应方程式

 

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（2）试指出几个所制得硅的物理提纯方法

 

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Answer 1

考点：硅和二氧化硅

专题：碳族元素

分析：（1）二氧化硅在还原剂作用下还原，然后与酸反应生成甲硅烷，甲硅烷分解生成硅；
（2）工业上制得硅的物理提纯方法有：区域熔炼法；由熔融体拉成单晶．

解答： 解：（1）二氧化硅在还原剂作用下还原，然后与酸反应生成甲硅烷，甲硅烷分解生成硅，方法①SiO₂+4Mg=Mg₂Si+2MgO（杂质 Si） Mg₂Si+4NH₄Br=SiH₄+MgBr₂+4NH₃（在液氨中） Mg₂Si+2H₂SO₄=SiH₄+2MgSO₄（在水中） SiH₄=Si+2H₂，故答案为：SiO₂+4Mg=Mg₂Si+2MgO（杂质 Si） Mg₂Si+4NH₄Br=SiH₄+MgBr₂+4NH₃（在液氨中） Mg₂Si+2H₂SO₄=SiH₄+2MgSO₄（在水中） SiH₄=Si+2H₂；
（2）工业上制得硅的物理提纯方法有：区域熔炼法；由熔融体拉成单晶，故答案为：区域熔炼法；由熔融体拉成单晶．

点评：本题考查硅的工业制法和物理提纯的方法，题目结合氧化还原的知识分析解答，有一定的难度．