Question

14．运用所学知识，回答下列问题．
（1）SiO₂是玻璃的主要成分之一，SiO₂与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为SiO₂+2NaOH=Na₂SiO₃+H₂O，工艺师常用氢氟酸（填物质名称）来雕刻玻璃．
（2）向硫酸铜溶液中逐滴加入KI溶液至恰好反应完全，观察到产生白色沉淀CuI，蓝色溶液变为棕色．该反应的离子方程式为4I^-+2Cu ²⁺=2CuI↓+I₂；取一定量上述反应后的上层棕色清液于一支试管中，加入一定量的苯，振荡，此时观察到的现象是溶液分层，上层溶液为紫红色．
（3）电子工业常用FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板，工程师欲从制造印刷电路板的工业废水中回收铜，并获得FeCl₃溶液，设计如下方案：

①滤渣的成分为Fe、Cu．（填化学式）
②加过量B发生反应的离子方程式为Fe+2H⁺=Fe²⁺+H₂↑．
③通入C发生反应的化学方程式为Cl₂+2FeCl₂=FeCl₃．

Answer 1

分析 （1）二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水；氢氟酸能够与二氧化硅反应生成四氟化硅和水；
（2）向硫酸铜溶液中逐滴加入KI溶液至恰好反应完全，观察到产生白色沉淀CuI，蓝色溶液变为棕色说明有I₂生成，反应方程式为2CuSO₄+4KI=I₂+2CuI↓+2K₂SO₄；
（3）制取的是氯化铁溶液，金属A是铁；滤液是氯化亚铁溶液；加入的铁过量，滤渣是铁和铜；制取的是氯化铁，溶解铁，B加入应该是盐酸，滤液为氯化亚铁，氯化亚铁与氯气反应生成氯化铁，所以C为氯气．

解答 解：（1）二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水，化学方程式：SiO₂+2NaOH═Na₂SiO₃+H₂O；氢氟酸能够与二氧化硅反应生成四氟化硅和水，能够腐蚀玻璃，可用来雕刻玻璃；
故答案为：SiO₂+2NaOH═Na₂SiO₃+H₂O；氢氟酸；
（2）向硫酸铜溶液中逐滴加入KI溶液至恰好反应完全，观察到产生白色沉淀CuI，蓝色溶液变为棕色说明有I₂生成，反应方程式为2CuSO₄+4KI=I₂+2CuI↓+2K₂SO₄，离子方程式为：4I^-+2Cu ²⁺=2CuI↓+I₂，苯的碘溶液为紫红色，苯的密度比水小，故答案为：4I^-+2Cu ²⁺=2CuI↓+I₂；溶液分层，上层溶液为紫红色；
（3）制取的是氯化铁溶液，金属A是铁；滤液是氯化亚铁溶液；加入的铁过量，滤渣是铁和铜；制取的是氯化铁，溶解铁，B加入应该是盐酸，滤液为氯化亚铁，氯化亚铁与氯气反应生成氯化铁，所以C为氯气，
①滤渣的化学式为Fe、Cu，
故答案为：Fe、Cu；
②加过量盐酸发生反应的离子方程式为Fe+2H⁺=Fe²⁺+H₂↑，
故答案为：Fe+2H⁺=Fe²⁺+H₂↑；
③是将亚铁离子氧化成三价铁离子，反应方程式是：2FeCl₂+Cl₂=2FeCl₃，
故答案为：2FeCl₂+Cl₂=2FeCl₃．

点评 本题考查了硅、铜及其化合物以及物质分离、提纯的实验方案设计，熟悉硅酸盐的概念、二氧化硅的性质是解题关键，题目难度不大．