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19.已知1molX2完全燃烧生成X2O放出热量a kJ.且氧气中1molO=O键完全断裂时吸收热量b kJ,X2O中1molX-O键形成时放出热量c kJ,X2中1molX-X键断裂时吸收热量为(  )
A.4c-b+2a kJB.$\frac{4c-b-2a}{2}$ kJC.4c+b-2a kJD.$\frac{4c+b-2a}{2}$ kJ

分析 2X2+O2$\frac{\underline{\;点燃\;}}{\;}$2X2O,1molX2O含有2molX-O键,1molX2中1mol X-X键,根据化学反应放出的热量=新键生成释放的能量-旧键断裂吸收的能量,结合反应方程式进行计算.

解答 解:已知1molX2完全燃烧生成X2O放出热量a kJ,可知2molX2完全燃烧生成X2O时放出热量2akJ,X2完全燃烧生成X2O是放热反应,所以化学反应放出的热量=新键生成释放的能量-旧键断裂吸收的能量,设氢气中1molX-X键断裂时吸收热量为x,根据方程式:2X2+O2$\frac{\underline{\;点燃\;}}{\;}$2X2O,则:2akJ=ckJ×4-(2x+bkJ),解得x=$\frac{(4c-b-2a)}{2}$kJ,
故选B.

点评 本题考查学生化学反应中的能量变化知识,熟记放出的热量=新键生成释放的能量-旧键断裂吸收的能量是解题的关键,难度不大.

练习册系列答案
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3.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程.
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去.
③X可能是硝酸(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:
①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCl的利用率为90%,反应II中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl 和H2的物质的量之比是5:1.

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