题目内容
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
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相关信息:①四氯化硅遇水极易水解;②SiCl4沸点为57.7℃,熔点为-70.0℃。请回答:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。
(2)装置C中的试剂是 ;装置F的作用是 ;
装置E中的h瓶需要冷却的理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中含有铁元素,为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。
①反应的离子方程式: 。
②滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。
③滴定前检验Fe3+是否被完全还原的实验操作是 。
练习册系列答案
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下列实验操作及现象能够达到实验目的的是
选项 | 实验操作及现象 | 实验目的 |
A | 溶液中滴加盐酸酸化的氯化钡溶液出现白色沉淀 | 检验溶液中存在SO42- |
B | FeBr2溶液加入少量氯水,溶液有浅绿色变为黄色 | 比较Fe2+、Br-还原性强弱 |
C | 向一定浓度Na2SiO3溶液中通CO2,溶液变浑浊 | 比较C 、Si非金属性强弱 |
D | 溶液中加KSCN溶液,再加氯水,观察溶液是否出现血红色 | 检验Fe3+溶液中是否含有Fe2+ |