下列描述中正确的是A．ClO3-的空间构型为平面三角形B．SiF4 和 SO32-的中心原子均为 sp3 杂化C．在所有的元素中.氟的第一电离能最大D．C2H5OH 分子中共含有 8 个极性键.1 个 π 键题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

下列描述中正确的是

A．ClO3－的空间构型为平面三角形

B．SiF4 和 SO32－的中心原子均为 sp3 杂化

C．在所有的元素中，氟的第一电离能最大

D．C2H5OH 分子中共含有 8 个极性键，1 个 π 键

练习册系列答案

相关题目

将纯锌片和纯铜片按图方式插入同浓度的稀硫酸中一段时间，以下叙述正确的是

A．两烧杯中溶液的pH均增大

B．甲中铜片是正极，乙中铜片是负极

C．两烧杯中铜片表面均无气泡产生

D．甲、乙溶液均变蓝色

（14分）硼及其化合物在工业上有许多用途。以铁硼矿（主要成分为Mg2B2O5·H2O，还有少量Fe2O3、FeO、CaO、Al2O3和SiO2等)为原料制备硼酸(H3BO3)的工艺流程如图所示：

已知：Fe3+、Al3+、Fe2+和Mg2+以氢氧化物形式完全沉淀时，溶液的pH分别为3.2、4.9、9.7和 12.4。

回答下列问题：

（1）为提高“浸出”速率，除适当增加硫酸浓度外，还可采取的措施有。

（2）实验室中过滤操作所需要的玻璃仪器有：玻璃棒、。

（3）“浸渣”中的物质是（化学式）。

（4）“净化除杂”需先加H2O2溶液，作用是，然后再调节溶液的pH约为5，目的是。

（5）“粗硼酸”中的主要杂质是（填名称）。

（6）单质硼可用于生产具有优良抗冲击性能的硼钢。以硼酸和金属镁为原料在加热条件下可制备单质硼，用化学方程式表示制备过程。

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息：①四氯化硅遇水极易水解；②SiCl4沸点为57．7℃，熔点为－70．0℃。请回答：

（1）写出装置A中发生反应的离子方程式。

（2）装置C中的试剂是；装置F的作用是；

装置E中的h瓶需要冷却的理由是。

（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中含有铁元素，为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。

①反应的离子方程式：。

②滴定前是否要滴加指示剂？（填“是”或“否”），请说明理由。

③滴定前检验Fe3＋是否被完全还原的实验操作是。

金属冶炼与处理常涉及氧化还原反应。由下列物质冶炼相应金属时采用电解法的是

A．Fe2O3 B．NaCl C．Cu2S D．Al2O3

下列说法不正确的是

A．医用酒精是用淀粉类植物发酵经蒸馏制成，浓度通常是75%

B．用浸泡过高锰酸钾溶液的硅藻土保鲜水果，其作用是吸收并氧化水果释放出的乙烯

C．“海水淡化”可以解决“淡水供应危机”，向海水中加入明矾可以使海水淡化

D．石油裂解、煤的干馏、玉米制醇、蛋白质的变性都是化学变化

反应3X(g)+Y(g)2Z(g)+2W(g)在2L密闭容器中进行，5min后Y减少了0.5mol，则此反应的平均速率υ为

A．υ(X)＝0.05mol·L—1·min—1 B．υ(Y)＝ 0.10mol·L—1·min—1

C．υ(Z)＝0.10mol·L—1·min—1 D．υ(W)＝0.05mol·L—1·s—1

下列各组离子在指定溶液中，能大量共存的是

①无色溶液中：K+ Cl- Mg2+ SO42- Cr2O72-

②pH=11的溶液中：CO32- Na+ AlO2- NO3- S2-

③水电离的H+浓度为10-2mol/L的溶液中：Cl- CO32- NH4+ SO32- NO3-

④加入铝粉放出氢气的溶液中：K+ Cl- Mg2+ S2O32- SO42- NH4+

⑤使甲基橙变红的溶液中：MnO4- Fe2+ Na+ NO3- SO42-

⑥中性溶液中：Fe3+ Al3+ NO3- Cl-

⑦能溶解铜粉的溶液：I- NO3- SO42- Fe3+ Al3+

A.①②⑤ B.①③⑥ C.②④ D.②

下列化合物能由单质直接化合生成的是

A．NO2 B．FeCl3 C．SO3 D．FeCl2

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