题目内容
(18分) (1)某实验小组的甲同学用图l所示装置制取少量乙酸乙酯(加热设备及夹持固定装置均略去)。
①试管a中需要加入浓硫酸、冰醋酸和乙醇各2mL,正确的加入顺序及操作是 。
②试管a中加入碎瓷片的作用是 ,如果加热一段时间后发现忘记加瓷片,应该采取的正确操作是 (填序号)。
A.立即补加 | B.不需补加 | C.冷却后补加 | D.重新配料 |
④试管b中盛有饱和Na2CO3溶液,其作用是 。
⑤反应结束后,振荡试管b,静置。观察到的现象是 。
(2)该小组的乙同学利用图2所示装置制备并收集干燥的NO2气体。
①图2中仪器n的名称是 。
②请在方框内画出用集气瓶收集NO2的装置图。
③写出仪器n中发生反应的离子方程式: 。
(3)该小组的丙同学利用图2所示装置制取NH3和O2的混合气体,并且利用图3所示装置验证NH3的某些性质。m中加入浓氨水,q中加入碱石灰,e内放置催化剂(铂石棉),按气流方向连接各仪器x→y→z→h。
①图2仪器n内需加入固体试剂的名称为 。
②实验中观察到e内有红棕色气体出现,证明氨气具有 性,e中发生反应的化学方程式为 。
(1)①先加入乙醇,然后边摇动试管边慢慢加入浓硫酸和冰醋酸 ②防止暴沸;C
③加快反应速率;及时将产物乙酸乙酯蒸出,以利于平衡向生成乙酸乙酯的方向移动
④吸收随乙酸乙酯蒸出的少量乙酸和乙醇 ⑤b中的液体分层,上层是透明的油状液体
(2)①圆底烧瓶 ②
③Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑
(3)①过氧化钠 ②还原 ③4NH3+5O24NO+6H2O、2NO+O2=2NO2
解析试题分析:(1)①浓硫酸密度大,应将浓硫酸加入到乙醇中,以防酸液飞溅,乙酸易挥发,冷却后再加入乙酸。
②液体加热要加碎瓷片,防止暴沸,如果加热一段时间后发现忘记加碎瓷片,应冷却至室温,补加碎瓷片,故答案为:防止暴沸;C。
③实验中加热试管,反应的温度高,反应速度快,该反应为可逆反应,温度高,乙酸乙酯的沸点低,易挥发,所以化学平衡向正反应方向移动,利于生成乙酸乙酯,故答案为:加快反应速率;及时将产物乙酸乙酯蒸出,以利于平衡向生成乙酸乙酯的方向移动。
④制备乙酸乙酯时常用饱和碳酸钠溶液,目的是中和挥发出来的乙酸,使之转化为乙酸钠溶于水中;溶解挥发出来的乙醇;降低乙酸乙酯在水中的溶解度,便于分层得到酯。
⑤乙酸乙酯,其密度比水小,所以在碳酸钠溶液层上方有无色油状液体出现。
(2)①根据仪器的结构特点可知,图2中仪器n的名称是圆底烧瓶。
②二氧化氮气体易溶于水,所以不能用排水法收集;二氧化氮的密度大于空气的密度且和氧气不反应,所以可以采用向上排空气法收集,另外NO2是大气污染物,需要有尾气吸收装置,则装置图为。
③铜与浓硝酸反应的离子方程式为Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑。
(3)①过氧化钠与H2O反应生成氢氧化钠和氧气,同时放出大量热,温度升高使浓氨水中氨的溶解度减小而逸出;氢氧化钠电离出的OH-增大了氨水中OH-浓度,促使氨水电离平衡左移,导致氨气放出;②氨气中氮元素的化合价是-3价,二氧化氮中氮元素的化合价是+4价,反应前后氮元素的化合价升高,所以氨气作还原剂,体现其还原性;氨气和氧气在一定条件下反应生成一氧化氮和水,一氧化氮和氧气能反应生成二氧化氮,反应方程式为:4NH3+5O24NO+6H2O、2NO+O2=2NO2。
考点:考查乙酸乙酯和NO2制备的实验方案设计与评价
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Cl2O为国际公认高效安全灭菌消毒剂之一,它是棕黄色强刺激性气体,沸点3.8 ℃,熔点-116 ℃。实验室可用潮湿的Cl2与Na2CO3反应制取少量Cl2O,装置如下图Ⅰ:
回答下列问题:
(1)把浓盐酸直接滴在KMnO4晶体上就可以产生Cl2。请模仿“图Ⅱ”在“图Ⅰ”A处补画出正确的装置图,并作必要的标注。
(2)B中试剂a应选用 (填字母序号)。
a.CCl4 b.饱和NaCl溶液
c.浓H2SO4 d.饱和NaHCO3溶液
(3)通入适量的氯气,在C中生成棕黄色的物质Cl2O,该物质常温下为气体,方程式为 Cl2+ Na2CO3+ = NaHCO3+ NaCl+ Cl2O
(4)对C中反应后的固体成分进行检验,请写出实验步骤以及预期的现象和结论。
限选实验试剂和仪器:蒸馏水、稀HNO3、BaCl2溶液、Ba(OH)2溶液、AgNO3溶液、澄清石灰水、试管、小烧杯、带导管的橡皮塞、过滤装置。
实验步骤 | 现象和结论 |
步骤一:取C中的少量固体样品于试管中,滴加足量蒸馏水至完全溶解,然后将溶液分别置于a、b试管中。 | |
步骤二:向a试管中滴加BaCl2溶液,静置。 | 无明显现象,证明固体中不含Na2CO3。 |
步骤三: | |
步骤四: | 则证明固体中含有NaCl。 |
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得
高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式: 。
(2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却的理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。