题目内容
【题目】硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础.请回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号为 , 该能层具有的原子轨道数为、电子数为 .
(2)硅主要以硅酸盐、等化合物的形式存在于地壳中.
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献个原子.
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备.工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4 , 该反应的化学方程式为 .
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
化学键 | C﹣C | C﹣H | C﹣O | Si﹣Si | Si﹣H | Si﹣O |
键能/(kJmol﹣1 | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是 .
②SiH4的稳定性小于CH4 , 更易生成氧化物,原因是 .
(6)在硅酸盐中,SiO4﹣4四面体(如图1)通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式.图(2)为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为 , Si与O的原子数之比为 , 化学式为 .
【答案】
(1)M;9;4
(2)二氧化硅
(3)共价键;3
(4)Mg2Si+4NH4Cl=SiH4↑+4NH3↑+2MgCl2
(5)C﹣C键和C﹣H键较强,所形成的烷烃稳定,而硅烷中Si﹣Si键和Si﹣H键的键能较低,易断裂,导致长链硅烷难以生成;C﹣H键的键能大于C﹣O键,C﹣H键比C﹣O键稳定,而Si﹣H键的键能却远小于Si﹣O键,所以Si﹣H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si﹣O键
(6)sp3;1:3;[SiO3]n2n﹣(或SiO32﹣)
【解析】解:(1.)原子中,离原子核越远的电子层其能量越高,所以Si原子中M电子层能量最高;该原子中含有3个s轨道、6个p轨道,所以一共有9个轨道,电子数为4,故答案为:M;9;4;
(2.)硅属于亲氧元素,在自然界中不能以单质存在,主要以二氧化硅和硅酸盐存在,故答案为:二氧化硅;
(3.)硅单质中硅硅之间以共价键结合,硅晶胞中每个顶点上有1个Si、面心是有1个Si、在晶胞内部含有4个Si原子,利用均摊法知,面心提供的硅原子个数=6× =3,故答案为:共价键;3;
(4.)可使湿润的红色石蕊试纸变蓝的气体是氨气,再根据元素守恒知还生成氯化镁MgCl2 , 所以反应方程式为:Mg2Si+4NH4Cl=SiH4↑+4NH3↑+2MgCl2 , 故答案为:Mg2Si+4NH4Cl=SiH4↑+4NH3↑+2MgCl2;
(5.)①键能越大形成的化学键越稳定,C﹣C键和C﹣H键的键能大于Si﹣Si键和Si﹣H键的键能,所以C﹣C键和C﹣H键较强,所形成的烷烃稳定,而硅烷中Si﹣Si键和Si﹣H键的键能较低,易断裂,导致长链硅烷难以生成,故答案为:C﹣C键和C﹣H键较强,所形成的烷烃稳定,而硅烷中Si﹣Si键和Si﹣H键的键能较低,易断裂,导致长链硅烷难以生成;②键能越大形成的化学键越稳定,CC﹣H键的键能大于Si﹣H键的键能,而Si﹣H键的键能却远小于Si﹣O键,所以Si﹣H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si﹣O键,故答案为:C﹣H键的键能大于C﹣O键,C﹣H键比C﹣O键稳定,而Si﹣H键的键能却远小于Si﹣O键,所以Si﹣H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si﹣O键;
(6.)Si原子形成四个σ键,Si原子的杂化形式为sp3 , 根据图片知,每个三角锥结构中Si原子是1个,O原子个数=2+2× =3,所以硅原子和氧原子个数之比=1:3,3个O原子带6个单位负电荷,每个硅原子带4个单位正电荷,所以形成离子为[SiO3]n2n﹣ (或SiO32﹣),故答案为:sp3;1:3;[SiO3]n2n﹣ (或SiO32﹣).
(1)原子中,离原子核越远的电子层其能量越高;该原子中含有3个s轨道、6个p轨道;(2)硅属于亲氧元素,在自然界中主要以二氧化硅和硅酸盐存在;(3)非金属元素之间易形成共价键;利用均摊法计算;(4)可使湿润的红色石蕊试纸变蓝的气体是氨气,再根据元素守恒知还生成氯化镁MgCl2;(5)①键能越大形成的键越稳定;②键能越大形成的化学键越稳定,键能越小越不稳定;(6)利用均摊法计算其原子个数比,从而确定其化学式.
【题目】有关键能数据如表:
化学键 | Si﹣O | O=O | Si﹣Si |
键能/kJmol﹣1 | X | 498.8 | 176 |
晶体硅的燃烧热为989.2kJmol﹣1 , 则X的值为( )
A.423.3
B.460
C.832
D.920