题目内容
【题目】Q、X、Y和Z为短周期元素,它们在周期表中的位置如图所示。
X | Y | ||
Q | Z |
这4种元素的原子最外层电子数之和为22。据此回答下列问题:
(1)Q的单质常用于制作半导体,则Q在元素周期表中的位置为________。
(2)X的最低价氢化物的结构式为__________。
(3)Q、X、Z的最高价含氧酸中,酸性最强的是____________。
(4)X、Y和氢3种元素形成的化合物中既含有离子键又含有共价键的是________(任写一种的化学式)。
(5)X的简单氢化物与Y的单质在催化加热条件下反应生成两种氧化物,该反应的化学方程式为_______。
【答案】 三周期,ⅣA族 HClO4 NH4NO3或NH4NO2 4NH3+5O24NO+6H2O
【解析】根据元素在周期表中的位置可知X、Y位于第二周期,Q与Z位于第三周期。设Q的最外层电子数是n,则X、Y和Z的原子最外层电子数分别是n+1、n+2、n+3,则n+n+1+n+2+n+3=22,解得n=4,所以X是N,Y是O,Z是Cl,Q是Si,结合元素周期律和相关物质的性质解答。
根据以上分析可知X是N,Y是O,Z是Cl,Q是Si,则
(1)硅的单质常用于制作半导体,硅元素的原子序数是14,在元素周期表中的位置为第三周期第ⅣA族。
(2)X的最低价氢化物是氨气,结构式为。
(3)非金属性越强最高价含氧酸的酸性越强,因此Q、X、Z的最高价含氧酸中,酸性最强的是HClO4。
(4)N、O和H3种元素形成的化合物中既含有离子键又含有共价键的是NH4NO3或NH4NO2)。
(5)X的简单氢化物与Y的单质在催化加热条件下反应生成两种氧化物,即氨的催化氧化,该反应的化学方程式为4NH3+5O24NO+6H2O。
【题目】工业上消除氮氧化物的污染,可用如下反应:CH4(g)+2NO2(g)N2(g)+CO2(g)+2H2O(g)△H=a kJ/mol 在温度T1和T2时,分别将0.50mol CH4和1.2mol NO2充入体积为1L的密闭容器中,测得n(CH4)随时间变化数据如下表:下列说法不正确的是( )
温度 | 时间/min | 0 | 10 | 20 | 40 | 50 |
T1 | n(CH4) | 0.50 | 0.35 | 0.25 | 0.10 | 0.10 |
T2 | n(CH4) | 0.50 | 0.30 | 0.18 | … | 0.15 |
A.10 min内,T1时CH4的化学反应速率比T2时小
B.温度:T1<T2
C.a<0
D.平衡常数:K(T1)<K(T2)