Question

【题目】有关物质用途，用离子方程式解释不正确的是（ ）
A.氢氟酸刻蚀玻璃：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O
B.明矾用于净水：Al3++3H2O=Al（OH）3+3H+
C.纯碱去除油污：CO32﹣+H2O?HCO +OH﹣
D.氯气制备“84”消毒液：Cl2+2OH﹣=Cl﹣+ClO﹣+H2O

Answer 1

【答案】B
【解析】解：A．氢氟酸刻蚀玻璃，反应的离子方程式为：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，故A正确；B．明矾用于净水，铝离子水解生成氢氧化铝胶体，正确的离子方程式为：Al3++3H2OAl（OH）3+3H+ ， 故B错误；
C．纯碱去除油污，碳酸根离子水解生成碳酸氢根离子和氢氧根离子，反应的离子方程式为：CO32﹣+H2OHCO +OH﹣ ， 故C正确；
D．氯气制备“84”消毒液的离子方程式为：Cl2+2OH﹣=Cl﹣+ClO﹣+H2O，故D正确；
故选B．