题目内容

【题目】NH4Al(SO4)2是食品加工中最为快捷的食品添加剂,用于焙烧食品中;NH4HSO4在分析试剂、医药、电子工业中用途认识广泛。请回答下列问题:

1NH4Al(SO4)2可作净水剂,其理由是__(用必要的化学用语和相关文字说明)。

2)相同条件下,0.1mol·L-1NH4Al(SO4)2c(NH4+)__(填“等于”“大于”或“小于”)0.1mol·L-1NH4HSO4c(NH4+)。

320℃时,0.1mol·L-1NH4Al(SO4)22c(SO42-)-c(NH4+)-3c(Al3)=__(表达式)。

4)室温时,向100mL0.1mol·L-1NH4HSO4溶液中滴加0.1mol·L-1NaOH溶液,得到溶液pHNaOH溶液体积的关系曲线如图所示。

试分析图中abcd四个点,水的电离程度最大的是___点;在b点,溶液中各离子浓度由大到小的排列顺序是___

【答案】Al3+水解生成的Al(OH)3具有吸附性,即Al3++3H2OAl(OH)3+3H+Al(OH)3吸附悬浮颗粒使其沉降从而净化水 小于 c(H+)-c(OH-) a cNa+)>cSO42-)>cNH4+)>cOH-)=cH+

【解析】

1Al3+水解生成的Al(OH)3具有吸附性;(2)根据水解中同离子效应等分析;(3)根据电荷守恒进行分析;(4)根据盐溶液中离子浓度大小关系的判断。

1Al3+水解生成的Al(OH)3具有吸附性,发生反应的离子方程式为:Al3++3H2OAl(OH)3+3H+,故答案为:Al3+水解生成的Al(OH)3具有吸附性,即Al3++3H2OAl(OH)3+3H+Al(OH)3吸附悬浮颗粒使其沉降从而净化水;

2NH4Al(SO4)2NH4HSO4中的NH4+均发生水解,但是NH4Al(SO4)2Al3+水解呈酸性抑制NH4+水解,HSO4-电离出H+同样抑制NH4+水解,因为HSO4-电离生成的H+浓度比Al3+水解生成的H+浓度大,所以NH4HSO4NH4+水解程度比NH4Al(SO4)2中的小,故答案为:小于;

3)根据电荷守恒2c(SO42-)+c(OH-)=c(NH4+)+3c(Al3+)+c(H+),可以求出2c(SO42-)-c(NH4+)-3c(Al3+)=c(H+)-c(OH-);

4abcd四个点,根据反应量的关系,a点恰好消耗完H+,溶液中只有(NH4)2SO4Na2SO4bcd三点溶液均含有NH3H2O,(NH4)2SO4可以促进水的电离,而NH3H2O抑制水的电离,因此水的电离程度最大的点是a点;b点溶液呈中性,即溶液含有(NH4)2SO4Na2SO4NH3H2O三种成分,由于氢氧化钠的体积大于100mL,则b点时c(Na+)>c(SO42-),根据电荷守恒可以得出c(SO42-)>c(NH4+),故c(Na+)>c(SO42-)>c(NH4+)>c(OH-)=c(H+)。

练习册系列答案
相关题目

【题目】单质硼是冶金、建材、化工、核工业等部门的重要原料,而金属镁也广泛应用于航空航天等国防军事工业。以铁硼矿为原料,利用碳碱法工艺生产硼和镁,其工艺流程图如下:

已知:铁硼矿的主要成分为Mg2B2O5·H2OFe3O4,还有少量Al2O3SiO2杂质;硼砂的化学式为Na2B4O7·10H2O

1)铁硼矿研磨粉碎的目的是____________;操作Ⅰ的名称为___;硼泥中除杂质SiO2Al2O3外,其他成分的化学式为_______

2)写出流程图中碳解过程的化学方程式:__________;在高温条件下金属MgA反应制备单质硼的化学方程式为:__________

3)碳碱工艺需两次调节pH:①常用H2SO4调节硼砂溶液pH23制取H3BO3,其离子方程式为B4O722H5H2O=4H3BO3;②制取MgCl2·7H2O时,在净化除杂过程中,需先加H2O2溶液,其作用是_______,然后用MgO调节pH约为5,其目的是_____

4)用MgCl2·7H2O制取MgCl2时,为防止MgCl2水解,反应需在“一定条件下”进行,则该条件是指_____

5)实验时不小心触碰到NaOH溶液,可用大量清水冲洗,再涂抹H3BO3溶液中和,其化学方程式为:NaOHH3BO3=Na[BOH4],下列关于Na[BOH4]溶液中微粒浓度关系正确的是___

A cNa)+cH)=c([BOH4])+cOH

B cNa)>c([BOH4])>cH)>cOH

C cNa)=c([BOH4])+cH3BO3

【题目】周期表中前四周期的元素A、B、C、D,原子序数依次增大,且A、B、C同周期。A共有两个原子轨道上有电子,且电子数目相同。B、C相邻,且C中的未成对电子数为3个,D是人类最早使用的元素,并以这种元素命名了一个时代。请回答下面的问题:

(1)A、B、C第一电离能从小到大的顺序为:__________________(填元素符号),D的价层电子排布图为:_______________________

(2)在不同的温度下,A以ACl2和二聚体 A2Cl4两种形式存在,二聚体的结构式如下图所示:

①ACl2中A的杂化方式为_____________

②1mol A2Cl4中含配位键的数目为_____________

(3)B元素能形成多种同素异形体,其中一种同素异形体X的晶体结构和晶胞结构如图所示。已知X的密度是a g/cm3,B-B键的键长为r cm,阿伏加德罗常数的值为NA

X的晶体结构(左)和晶胞(右)

①X中含有的化学键为____________________

②X晶体的层间距离为___________________

(4)C元素可以形成两种含氧酸HCO2和HCO3,酸性是HCO3___HCO2(填“强于”或者“弱于”),原因为__________________________

(5)将二维密置层在三维空间内堆积,可以得到两种金属晶体的最密堆积方式。一种是按照XYXYXYXY……方式堆积,我们称这种堆积方式为“甲”方式。另外一种是按照XYZXYZXYZXYZ……方式堆积,我们称这种堆积方式为“乙”方式。则金属D的堆积方式为_______。(填“甲”或“乙”)

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网