题目内容
亚氯酸钠(NaClO2)是一种重要的含氯消毒剂,主要用于水的消毒以及纺织品的漂白。过氧化氢法生产亚氯酸钠的操作步骤如下:
①将氯酸钠(NaClO3)和盐酸加入到ClO2发生器中;
②将产生的ClO2气体在稳定装置中用水吸收后,再加入NaOH和双氧水;
③在固体分离装置中进行分离,得到亚氯酸钠。
已知NaClO2的溶解度随温度升高而增大,适当条件下可结晶析出NaClO2·3H2O,且NaClO2在碱性条件下稳定性较高。试回答下列问题:
(1)在ClO2发生器中同时有氯气产生,则在ClO2发生器中发生反应的化学方程式为 。
(2)在ClO2稳定装置中,H2O2作 (选填序号)。
A.氧化剂
B.还原剂
C.既作氧化剂又作还原剂
D.既不作氧化剂也不作还原剂
(3)在实验室模拟“固体分离装置”中的技术,必须进行的实验操作是 (按实验先后顺序填写操作代号)。
A.过滤 B.加热 C.蒸发
D.分液 E.蒸馏 F.冷却
(4)经查阅资料可知,当pH≤2.0时,ClO2-能被I-完全还原成Cl-,欲测定成品中NaClO2的含量,现进行以下操作:
步骤Ⅰ | 称取样品Wg于锥形瓶中,并调节pH≤2.0 |
步骤Ⅱ | 向锥形瓶中加入足量的KI晶体,并加入少量的指示剂 |
步骤Ⅲ | 用c mol·L-1的Na2S2O3溶液滴定,生成I-和S4O62- |
①步骤Ⅱ中发生反应的离子方程式是 ,步骤Ⅲ中达到滴定终点时的现象是 。
②若上述滴定操作中用去了V mL Na2S2O3溶液,则样品中NaClO2的质量分数为 (用字母表示)。
(1)2NaClO3+4HCl=2ClO2↑+Cl2↑+2NaCl+2H2O
(2)B (3)BCFA
(4)①ClO2-+4H++4I-=2I2+Cl-+2H2O 滴入最后一滴Na2S2O3溶液时,溶液蓝色褪去且半分钟内不恢复 ②×100%
解析
硫酸和硝酸是中学阶段常见的两种强酸,请就两者与金属铜的反应情况回答下列问题:
(1)在100 mL 18 mol·L-1的浓硫酸中加入过量的铜片,加热使之充分反应,产生的气体在标准状况下的体积可能是 (填写代号);
A.7.32 L | B.6.72 L | C.20.16 L | D.30.24 L |
硅在地壳中的含量较高,硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用。回答下列问题:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的传统的无机非金属材料,其中生产普通玻璃的主要原料有 。
(2)高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如下:
①工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生产碳化硅,则在电弧炉内可能发生的反应的化学方程式为 。
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式 。
(3)有关物质的沸点数据如下表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和 ;SiHCl3极易水解,其完全水解的产物为 。
物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸点/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
(4)还原炉中发生的化学反应为: 。
(5)氯碱工业可为上述工艺生产提供部分原料,这些原料是 。