四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H2
 高温 
.
 
4HCl+Si下列说法不合理的是（　　）
A．反应制得的硅可用于制造半导体材料
B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率
C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得
D．混入少量空气对上述反应无影响
下列措施对增大反应速率效果显著的是（　　）
A．Na与水反应时增大水的用量
B．Fe与稀硫酸反应制取H2时，改用浓硫酸
C．在K2SO4与BaCl2两溶液反应时，增大压强
D．Cu与浓硝酸的反应中，将Cu片改成Cu粉
已知：Ni+CuSO4═NiSO4+Cu；Cu+2AgNO3═Cu（NO3）2+2Ag，则下列判断正确的是（　　）
A．还原性：Cu＞Ni＞AgB．氧化性：Ni2+＞Cu2+＞Ag+
C．还原性：Ni＜Cu＜AgD．氧化性：Ni2+＜Cu2+＜Ag+
一定温度下，向饱和NaOH溶液中加入一定量的钠块，充分反应后恢复到原来温度，下列说法正确的是（　　）
A．溶液中溶质质量增加，溶剂量减少，溶液的溶质质量分数变大
B．溶液的pH不变，有氢气放出
C．溶液中的Na+数目减小，有氧气放出
D．溶液中的c（Na+）增大，有氧气放出
根据以下热化学方程式，△H1和△H2的大小比较不正确的是（　　）
A．I2（g）+H2（g）=2HI（g）△H1；I2（s）+H2（g）=2HI（g）△H2，则△H1＜△H2
B．C（石墨）+O2（g）=CO2（g）△H1；C（金刚石）+O2（g）=CO2（g）△H2，则△H1＜△H2
C．H2（g）+Cl2（g）=2HCl（g）△H1；H2（g）+Br2（g）=2HBr（g）△H2，则△H1＜△H2
D．4Al（s）+3O2（g）=2Al2O3（s）△H1； 4Fe（s）+3O2（g）=2Fe2O3（s）△H2，则△H1＜△H2
下列分类正确的是（　　）
A．同素异形体：正丁烷、异丁烷
B．电解质：H2O、CH3COOH、NH4HCO3
C．胶体：饱和氯化铁溶液、淀粉溶液、牛奶
D．硅酸盐产品：水晶、水泥、陶瓷
下列实验装置能达到实验目的是（　　）
A．
魔方格

吸收HCl尾气
B．
魔方格

测定中和热
C．
魔方格

验证NH3易溶于水
D．
魔方格

比较Na2CO3与NaHCO3的稳定性
下列各项与反应热的大小无关的是（　　）
A．反应热的单位B．反应物的多少
C．反应物的性质D．反应物和生成物的状态
对于相同物质的量浓度、相同体积的盐酸和醋酸，下列几种说法错误的是（　　）
A．它们起始时溶液中的c（H+）不相同
B．各用水稀释100倍后，pH变化程度比较：盐酸＞醋酸
C．分别和同浓度的氢氧化钠溶液反应至pH=7，所用氢氧化钠溶液的体积相同
D．各与足量的锌粒充分反应，产生H2的量相同
下列物质的水溶液能够导电，但属于非电解质的是（　　）
A．醋酸B．碳酸氢铵C．二氧化硫D．氯气
 0  50622  50630  50636  50640  50646  50648  50652  50658  50660  50666  50672  50676  50678  50682  50688  50690  50696  50700  50702  50706  50708  50712  50714  50716  50717  50718  50720  50721  50722  50724  50726  50730  50732  50736  50738  50742  50748  50750  50756  50760  50762  50766  50772  50778  50780  50786  50790  50792  50798  50802  50808  50816  97155 

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