24.(10分)单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8
-
315
-
熔点/℃
-70.0
-107.2
-
-
-
升华温度/℃
-
-
180
300
162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                 

(2)装置A中g管的作用是        ;装置C中的试剂是      ;装置E中的h瓶需要冷却理由是        

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是        (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示剂?     (填“是”或“否”),请说明理由        。

         

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是      

 0  363365  363373  363379  363383  363389  363391  363395  363401  363403  363409  363415  363419  363421  363425  363431  363433  363439  363443  363445  363449  363451  363455  363457  363459  363460  363461  363463  363464  363465  363467  363469  363473  363475  363479  363481  363485  363491  363493  363499  363503  363505  363509  363515  363521  363523  363529  363533  363535  363541  363545  363551  363559  447090 

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