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四种常见元素:A、B、C、D为周期表前四周期元素,原子序数依次递增,它们的性质或结构信息如下表.试根据信息回答有关问题.
| 元素 | A | B | C | D |
| 结构性质 信息 |
基态原子中电子占据三种能量不同的原子轨道,且每种轨道中的电子数相同 | 原子核外有两个电子层,最外层有3个未成对的电子 | 基态原子的M层有2对成对的p电子 | 其原子序数比A、B、C三种元素原子的质子数总和还少1,有+1、+2两种常见化合价 |
(2)B元素的氢化物的沸点比同主族相邻元素氢化物沸点
(3)元素F与A相邻且同主族,它们与氧元素的成键情况如下:
| A-O | A=O | F-O | F=O | |
| 键能(KJ/mol) | 360 | 803 | 464 | 640 |
(4)往D元素的硫酸盐溶液中逐滴加入过量B元素的氢化物水溶液,可生成的配合物,该配合物中不含有的化学键是
(5)下列分子结构图中的“
则在以上分子中,中心原子采用sp3杂化形成化学键的是
(6)已知一种分子B4分子结构如图所示,断裂1molB-B吸收aKJ的热量,生成1molB≡B放出bKJ热量.试计算反应:B4(g)═2B2(g)△H=
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。
查看习题详情和答案>>硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅 的主要方法,生产过程示意图如下:
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① 写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
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② 整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式
________________________________________________________________________;
H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
________________________________________________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液, 振荡。写出实验现象并给予解释:
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