题目内容
（16分）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是 。
（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。
①SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；②H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是 。
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释 。
（16分）
（1）作还原剂，与石英砂中的SiO2反应，生成单质Si。（2分）
（2）①SiHCl3+3H2O===H2SiO3+3HCl +H2↑（4分）
②反应体系中有大量H2，高温下，H2遇O2易发生爆炸；氧气可能会氧化SiHCl3。（4分）
（3）试管中有白色胶状沉淀生成，同时有刺激性气味气体生成；Na2SiO3和NH4Cl均能够水解，二者互相促进，Na2SiO3水解生成H2SiO3，NH4Cl水解产生NH3。（6分）
解析:
练习册系列答案
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iCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
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