题目内容
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅 的主要方法，生产过程示意图如下：
① 写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
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② 整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
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H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
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(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液， 振荡。写出实验现象并给予解释：
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解析 (1)①根据原子守恒即质量守恒可以写出SiHCl3与H2反应的化学方程式。
②SiHCl3和H2O剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，分析它们化合价的变化可知， 
，而Cl的化合价未发生变化，因此另一种元素即H元素的化合价必 定降低，即另一种物质是H2。
(2)碳化硅、氮化硅为原子晶体，A、B和C都正确。玻璃是一种玻璃态物质，无固定的 熔点。盐酸不能与硅反应，而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应。因此D、E 都不正确。
答案 (1)①SiHCl3＋H2
Si＋3HCl
②SiHCl3＋3H2O===H2SiO3↓＋3HCl↑＋H2↑
氧气与氢气混合，可能引起爆炸；氧气可能会氧化SiHCl3
(2)ABC
(3)现象：试管中有白色胶状沉淀生成，并且有刺激性气体生成
解释：Na2SiO3和NH4Cl均能够水解，二者相互促进，Na2SiO3水解生成 H2SiO3， NH4Cl水解产生NH3
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iCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
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