（15分）氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料，硬度大、耐磨损。利用SiO₂和C的混合粉末在N₂的气氛中加热至1300℃反应制得。请回答下列问题：
（1）已知氮化硅的晶体结构中，原子间都以单键相连，且N原子和N原子，Si原子与Si原子不直接相连，同时每个原子都满足8电子稳定结构，则氮化硅的化学式____，晶体类型是   ；
（2）基态Si原子的电子排布式为_________；Si和C相比，电负性较大的是_________，
（3）在SiO₂晶体结构中，O－Si－O的键角是_______，Si原子和周围的四个O原子组成的空间构型为           ，SiO₂中Si的杂化类型_______；
（4）氮化硅抗腐蚀能力强，一般不与其他无机酸反应，但能和氢氟酸反应生成硅酸。试写出该反应的化学方程式                            。
（5）晶体硅的晶胞如图所示，则每个晶体硅的晶胞中含有     个硅原子。

（15分）氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料，硬度大、耐磨损。利用SiO₂和C的混合粉末在N₂的气氛中加热至1300℃反应制得。请回答下列问题：

（1）已知氮化硅的晶体结构中，原子间都以单键相连，且N原子和N原子，Si原子与Si原子不直接相连，同时每个原子都满足8电子稳定结构，则氮化硅的化学式____，晶体类型是    ；

（2）基态Si原子的电子排布式为_________；Si和C相比，电负性较大的是_________，

（3）在SiO₂晶体结构中，O－Si－O的键角是_______，Si原子和周围的四个O原子组成的空间构型为            ，SiO₂中Si的杂化类型_______；

（4）氮化硅抗腐蚀能力强，一般不与其他无机酸反应，但能和氢氟酸反应生成硅酸。试写出该反应的化学方程式                             。

（5）晶体硅的晶胞如图所示，则每个晶体硅的晶胞中含有      个硅原子。

氮化硅（Si₃N₄）是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域中有重要用途．

Ⅰ．工业上有多种方法来制备氮化硅，常见的方法：

方法一　直接氮化法：在1 300～1 400℃时，高纯粉状硅与纯氮气化合，其反应方程式为______．
方法二　化学气相沉积法：在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl，与方法一相比，用此法制得的氮化硅纯度较高，其原因是______．
方法三　Si（NH₂）₄热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si3N4和一种气体______（填分子式）；然后使Si（NH₂）₄受热分解，分解后的另一种产物的分子式为______．
Ⅱ．（1）氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，此盐中存在的化学键类型有______．
（2）已知：25℃，101kPa条件下的热化学方程式：
3Si（s）+2N2（g）═Si3N4（s）△H=-750.2kJ/mol　　①
Si（s）+2C12（g）═SiCl4（g）△H=-609.6kJ/mol　　②
H2（g）+C12（g）═HCl（g）△H=-92.3kJ/mol　　③
请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式：______．
Ⅲ．工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：


已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色．
（1）原料B的主要成分是______（填化学式）．
（2）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：______．
（3）上述生产流程中电解A的水溶液时，阳极材料能否用Cu？______（填“能”或“不能”）．写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴、阳极的电极反应方程式．阳极：______；阴极：______．

氮化硅（Si₃N₄）是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。

I．工业上有多种方法来制备氮氦化硅，常见的方法有：

方法一  直接氦化法：在1300~1400℃时，高纯粉状硅与纯氦气化合，其反应方程式为

方法二  化学气相沉积法：在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氦气、氢气反应生成氦化硅和HCl，与方法一相比，用此法制得的氦化硅纯度较高，其原因是             。

方法三  Si（NH­₂）₄热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si（NH­₂）₄和一种气体

          （填分子式）；然后使Si（NH₂）₄受热分解，分解后的另一种产物的分子式为              。

II．（1）氨化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氨化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，此盐中存在的化学键类型有                  。

   （2）已知：25℃，101kPa条件下的热化学方程式：

        3Si（s）+2N₂（g）==Si₃N₄（s）   △H=—750.2kJ/mol

        Si（s）+2Cl₂（g）==SiCl₄（g）   △H=—609.6kJ/mol

        H₂（g）+Cl₂（g）==HCl（g） △H=—92.3kJ/mol

        请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式：

                                                                             。

III．工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：

    已知：X，高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色。

   （1）原料B的主要成分是               。

   （2）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：                  。

   （3）上述生产流程中电解A的水溶液时，阳极材料能否用Cu？   （填“能”或“不能”）。

        写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴阳极的电极方程式：

        阳极：                      ；阴极：                    。