网址：http://m.1010jiajiao.com/timu3_id_311495[举报]
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯(
，一种常用的化妆品防霉剂)，其生产过程如图所示(反应条件及某些试剂和产物未全部注明)：
据上图填写下列空白：
(1)有机物A的结构简式为________，B的结构简式________；
(2)反应④属于________；反应⑥属于________(选填下面选项的编号)．
A．取代反应 B．加成反应 C．消去反应 D．氧化反应 E．缩合反应
(3)在合成路线中，设计反应③和⑥这二步的目的是________________．
(4)写出反应⑥的化学方程式：________．
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是
a．氯气、光照 b．液溴、催化剂
有机物B的结构简式是
（2）反应⑤的化学方程式为：
（3）反应④的反应类型是
a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中：
（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号）a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na．
根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：______
（2）某学生将以上合成路线简化为：
你认为是否合理？______（填“是”或“否”）请说明理由：______（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由
生成C7H5O3Na的化学反应方程式______．
（4）写出同时符合下列要求的
所有同分异构体的结构简式______．
a．含苯环；
b．可与FeCl3溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．
工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如下图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是______（填编号） a．氯气、光照 b．液溴、催化剂 有机物B的结构简式是____________________。
（2）反应⑤的化学方程式为：______________________________________________。
（3）反应④的反应类型是_____（填编号），反应⑥的反应类型是_____（填编号）。
a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中：_________能与NaHCO3反应（不考虑酯的水解）； _________能与过量浓溴水反应。在一定条件下，等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应，消耗NaOH的物质的量之比为______________。
（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号）___________。
a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na
查看习题详情和答案>>
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是 （填编号）
a．氯气、光照 b．液溴、催化剂
有机物B的结构简式是 ．
（2）反应⑤的化学方程式为： ．
（3）反应④的反应类型是 （填编号），反应⑥的反应类型是 （填编号）．
a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中： 能与NaHCO3反应（不考虑酯的水解）； 能与过量浓溴水反应．在一定条件下，等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应，消耗NaOH的物质的量之比为 ．
（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号） ．a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na． 查看习题详情和答案>>