题目内容
工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如下图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是______（填编号） a．氯气、光照 b．液溴、催化剂 有机物B的结构简式是____________________。
（2）反应⑤的化学方程式为：______________________________________________。
（3）反应④的反应类型是_____（填编号），反应⑥的反应类型是_____（填编号）。
a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中：_________能与NaHCO3反应（不考虑酯的水解）； _________能与过量浓溴水反应。在一定条件下，等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应，消耗NaOH的物质的量之比为______________。
（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号）___________。
a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na
（1）B
（2） 
（3） e ， a
（4） E ， C、G ， 2:1:1:2
（5） a、c
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+CH3CH2OH
+H2O
生成C7H5O3Na的化学反应方程式．
所有同分异构体的结构简式
、
），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用．其过程如下：
+HI
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：
时，不可选用的试剂是（选填编号）（8分）工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯
，其生产过程如下图，根据下图回答：
(1)有机物A的结构简式为 。
(2)反应⑤的条件是
(3)反应②的反应类型是 (填编号，下同)，反应④的反应类型属 。
| A．取代反应 | B．加成反应 | C．氧化反应 | D．酯化反应 |
。
(5)在合成线路中，设计第③和⑥这两步反应的目的是：
。
），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用。其过程如下：