工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯(.一种常用的化妆品防霉剂).其生产过程如图所示(反应条件及某些试剂和产物未全部注明): 据上图填写下列空白: (1)有机物A的结构简式为 .B的结构简式 , (2)反应④属于 ,反应⑥属于． A．取代反应 B．加成反应 C．消去反应 D．氧化反应 E．缩合反应 (3)在合成路线中.设计反应③和� 题目和参考答案——青夏教育精英家教网——

题目内容

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯(，一种常用的化妆品防霉剂)，其生产过程如图所示(反应条件及某些试剂和产物未全部注明)：

据上图填写下列空白：

(1)有机物A的结构简式为________，B的结构简式________；

(2)反应④属于________；反应⑥属于________(选填下面选项的编号)．

A．取代反应　B．加成反应　C．消去反应　D．氧化反应　E．缩合反应

(3)在合成路线中，设计反应③和⑥这二步的目的是________________．

(4)写出反应⑥的化学方程式：________．

答案：

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（2009?湖北模拟）工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：

（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？

（填“是”或“否”）请说明理由：

酚羟基更容易被氧化

酚羟基更容易被氧化

（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由

生成C₇H₅O₃Na的化学反应方程式

．
（4）写出同时符合下列要求的

所有同分异构体的结构简式

．
a．含苯环；
b．可与FeCl₃溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（

），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用．其过程如下：

据图填写下列空白：
（1）有机物A的结构简式

，B的结构简式

；
（2）反应④属于

，反应⑤属于

．
（3）③和⑥的目的是

保护酚羟基，防止被氧化

保护酚羟基，防止被氧化

；
（4）写出反应⑥的方程式

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：______
（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？______（填“是”或“否”）请说明理由：______（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由

生成C₇H₅O₃Na的化学反应方程式______．
（4）写出同时符合下列要求的

所有同分异构体的结构简式______．
a．含苯环；
b．可与FeCl₃溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：
（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？（填“是”或“否”）请说明理由：（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由

生成C₇H₅O₃Na的化学反应方程式．
（4）写出同时符合下列要求的

所有同分异构体的结构简式．
a．含苯环；
b．可与FeCl₃溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：
（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？（填“是”或“否”）请说明理由：（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由

生成C₇H₅O₃Na的化学反应方程式．
（4）写出同时符合下列要求的

所有同分异构体的结构简式．
a．含苯环；
b．可与FeCl₃溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．