(2010?扬州模拟)多晶硅(硅单质的一种)被称为“微电子大厦的基石”,制备中副产物以SiCl4为主,它对环境污染很大,能遇水强烈水解,放出大量的热.研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉(主要成份为BaCO3,且含有钙、铁、镁等离子)制备BaCl2?2H2O,工艺流程如下.已知常温下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分别是:3.4、12.4. 
  
(1)SiCl4水解控制在40℃以下的原因是
防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率,防止反应过于剧烈
防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率,防止反应过于剧烈

已知:SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3(s)+HCl(g)△H1=+47kJ/mol;SiHCl3(s)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g)△H2=+189kJ/mol
则由SiCl4制备硅的热化学方程式为
SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol
SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol

(2)加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是
BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑

(3)加20% NaOH调节pH=12.5,得到滤渣A的主要成分是
Mg(OH)2、Ca(OH)2
Mg(OH)2、Ca(OH)2
,控制温度70℃的目的是
确保钙离子完全除去(或温度越高,Ca(OH)2溶解度越小)
确保钙离子完全除去(或温度越高,Ca(OH)2溶解度越小)

(4)BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤,再经真空干燥后得到?2H2O.实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器有
3
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种.
(5)为体现该工艺的绿色化学思想,该工艺中能循环利用的物质是
BaCl2溶液
BaCl2溶液
 0  20568  20576  20582  20586  20592  20594  20598  20604  20606  20612  20618  20622  20624  20628  20634  20636  20642  20646  20648  20652  20654  20658  20660  20662  20663  20664  20666  20667  20668  20670  20672  20676  20678  20682  20684  20688  20694  20696  20702  20706  20708  20712  20718  20724  20726  20732  20736  20738  20744  20748  20754  20762  203614 

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