(2011?姜堰市二模)近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放.蚀刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、碱性的(NH3-NH4Cl)以及传统的(HCl-FeCl3)等3种.蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失.几种蚀刻废液的常用处理方法如下:


(1)FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生.发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还有
Fe+2Fe3+=3Fe2+
Fe+2Fe3+=3Fe2+
2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
.(用离子方程式表示).
(2)HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为:
Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O

(3)H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中,加入的试剂A的最佳选择是下列中的
(填序号)
①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛
(4)处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是
温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗
温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗

(5)碱性蚀刻液发生的化学反应是:2Cu+4NH4Cl+4NH3?H2O+O2=2Cu(NH34Cl2+6H2O,处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是
促使溶液中Cu(NH34Cl2结晶析出
促使溶液中Cu(NH34Cl2结晶析出
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